Filatova et al. used RF discharges

Filatova et al. used RF discharges for wheat seeds treatment at high
ower (50 and 100 W) and pressure of 66 Pa (Filatova et al., 2013). A
ght increase in the germination rate ofwheatwas obtained as a result
plasma exposure for a short treatment time (up to 7 min), while
nger plasma exposure results in damage of the seeds and consequent-
a drastic reduction in the germination percentage. The authors also
port an increase of the sprout length, however this is not necessarily
result of plasma treatment, since vacuum treatment without plasma
so resulted in longer seedlings. A negative effect of long plasma expo-
re was also reported by Sera et al. (2010), who found that wheat
routs of seeds treated for 3 min were significantly heavier than
ose treated for 10, 20 and 40 min. A similar behaviour was noticed
r the root-to-shoot ratio (Sera et al., 2010). In our experiments this
end was not observed. The R/S ratio was higher for the treated seeds
an for the control seeds. This is probably due to the milder plasma
eatment in the present experiments: the average power in the

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

Filatova et al, ปล่อยคลื่นความถี่วิทยุที่ใช้สำหรับการรักษาเมล็ดข้าวสาลีที่สูง
Ower (50 และ 100 วัตต์) และความดัน 66 Pa (Filatova et al., 2013)
GHT เพิ่มขึ้นของอัตราการงอก ofwheatwas
ที่ได้รับเป็นผลมาจากการเปิดรับพลาสม่าเป็นเวลารักษาสั้น(ไม่เกิน 7 นาที) ในขณะที่
Nger ผลการเปิดรับพลาสม่าในความเสียหายของเมล็ดและ consequent-
การลดความรุนแรงในอัตราร้อยละการงอก ผู้เขียนยังพอร์ตการเพิ่มขึ้นของความยาวงอกได้อย่างไรก็ตามเรื่องนี้ไม่จำเป็นต้องมีผลของการรักษาพลาสม่าตั้งแต่การรักษาโดยไม่ต้องสูญญากาศพลาสม่าเพื่อให้มีผลในต้นกล้าอีกต่อไป ผลกระทบของการเปิดรับแสงนานพลาสม่าอีกครั้งนอกจากนี้ยังมีรายงานจากเซรา et al, (2010) ที่พบว่าข้าวสาลีrouts ของเมล็ดได้รับการรักษาเป็นเวลา 3 นาทีเป็นอย่างมีนัยนัยสำคัญหนักกว่าเซ่รับการรักษา10, 20 และ 40 นาที พฤติกรรมที่คล้ายกันก็สังเกตเห็นr อัตราส่วนรากต่อการยิง (เซรา et al., 2010) ในการทดลองของเราในตอนท้ายก็ไม่ได้สังเกต อัตราส่วน R / S เป็นที่สูงขึ้นสำหรับเมล็ดพันธุ์ได้รับการรักษาสำหรับเมล็ดพันธุ์ควบคุม นี้น่าจะเกิดจากการพลาสม่าจ้าeatment ในการทดลองในปัจจุบัน: การใช้พลังงานเฉลี่ยใน

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

filatova et al . ใช้ RF สำหรับข้าวสาลีเมล็ดการไหลที่โอเวอร์สูง
( 50 และ 100 วัตต์ ) และความดันของ 66 PA ( filatova et al . , 2013 ) a
อาจจะเพิ่มขึ้นในอัตราการงอก ofwheatwas ได้รับการเปิดรับแสงเป็นพลาสม่าผล
สำหรับเวลาการรักษาระยะสั้น ( ไม่เกิน 7 นาที ) ในขณะที่
เง้อพลาสม่าแสงผลในความเสียหายของเมล็ดและผล -
a การลดจํานวนมากในความงอก .ผู้เขียนยัง
พอร์ตเพิ่มงอกยาว แต่นี้ไม่จำเป็น
ผลพลาสมารักษา เนื่องจากการรักษาสิวไม่มีพลาสมา
ดังนั้นส่งผลให้ต้นกล้าอีกต่อไป ผลกระทบของ Expo - พลาสมายาว
อีกครั้งก็รายงานโดยเซรา et al . ( 2010 ) ที่พบว่า ข้าวสาลี
routs เมล็ดรักษา 3 นาทีจึงลดลงอย่างมีนัยสําคัญเมื่อ signi หนักกว่า
หรือการรักษา 10 , 20 และ 40 นาทีพฤติกรรมที่คล้ายกันสังเกตเห็น
R รากเพื่อยิง โดยเซรา et al . , 2010 ) ในการทดลองของเราสิ้นสุดนี้
ก็ไม่ได้สังเกต อัตราส่วน R / S ที่สูงขึ้นสำหรับการรักษาเมล็ดพันธุ์
เป็นสำหรับเมล็ดพันธุ์ควบคุม นี้อาจจะเนื่องจาก milder พลาสมา
eatment ในการทดลองปัจจุบัน : พลังงานเฉลี่ยใน