The microchip was fabricated using

The microchip was fabricated using standard microfabrication
technologies. Briefly, for the heater fabrication, Cr and Au layers
(25 and 200 nm thick) were deposited on a clean borofloat glass
(50.8650.860.5mm3) using an e-beam evaporator. Photoresist
(MicropositTM S1818, Rohm-Haas-Shipley Company, Inc., Marlborough, MA, USA) was spin-coated on it, and the square spira heater was patterned on the photoresist layer using photolithography. Selective metal etch using Cr and Au etchants was followed
by photoresist removal. For the PCR chamber fabrication, the
circular chamber design was patterned on a Cr/Au deposited glass
slide using the same procedure as described above, using
photolithography and metal etching. To build an 80 mm deep
chamber in the glass slide, the glass slide selectively covered with
the Cr/Au layer (etch mask) was etched using hydrofluoric acid
(49% HF, J.T. Baker, USA). Prior to this step, an adhesive tape
(MicroAmpH Optical Adhesive Film, Applied Biosystems, Beverly,
MA, USA) was attached to the back of the glass slide, allowing
only the front side of the glass slide to be etched. The remaining
metal etch mask layer was then removed by Cr and Au etchants
and rinsed with deionized (DI) water. Since each glass slide
(50.8650.8mm2) contains four identical PCR chips
(25.4625.4mm2), a laser micromachining equipment (PLS
6.120D, Universal Laser Systems, Inc., Scottsdale, AZ, USA)
was used to cut the single glass slides into four pieces. Before
assembling the heater and the reaction chamber glass slides, inlet
and outlet holes were drilled on the reaction chamber glass slide
using a platinum coated drill bit (UKAM Industrial Superhard
Tools, Valencia, CA, USA). To prevent possible cracking of the
glass slides during drilling, a supporting glass slide was attached to
the reaction chamber glass slide using wax (CrystalBondTM, SPI,
West Chester, PA, USA). After drilling the holes, the supporting
glass slide was removed and the remaining wax on the reaction
chamber glass slide was cleaned with acetone. Bonding between
the heater glass slide and the PCR chamber glass slide was
conducted using a UV curable adhesive (LoctiteH 3492, Henkel,
Rocky Hill, CT, USA). The final PCR microchip was then
sterilized using an autoclave before use.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ไมโครชิพมีหลังสร้างโดยใช้มาตรฐาน microfabricationเทคโนโลยี สั้น ๆ การประดิษฐ์เครื่องทำความร้อน Cr และ Au(25 และ 200 nm หนา) ได้ฝากบนแก้วสะอาด borofloat(50.8650.860.5mm3) ใช้ที่ evaporator อีคาน Photoresist(MicropositTM S1818 โรมทาง-Shipley บริษัท Inc. มาร์ลโบโร MA สหรัฐอเมริกา) ถูกหมุนเคลือบมัน และฮีตเตอร์ spira สี่เหลี่ยมมีลวดลายบนชั้น photoresist ใช้ photolithography งานโลหะกัดใช้ Cr และอู etchants ได้ตามโดย photoresist เอา สำหรับประดิษฐ์หอ PCR การออกแบบหอแบบวงกลมมีลวดลายบนแก้ว Cr/Au ฝากภาพนิ่งที่ใช้กระบวนการเดียวกันตามที่อธิบายไว้ข้างต้น การใช้photolithography และกัดโลหะ สร้างเป็น 80 มม.ลึกหอในแก้วภาพนิ่ง ภาพนิ่งแก้วเลือกที่จะปกคลุมไปด้วยชั้น Cr/Au (กัดหน้ากาก) ถูกแกะสลักโดยใช้กรดไฮโดรฟลูออริก(49% HF, J.T. เบเกอร์ สหรัฐอเมริกา) ก่อนขั้นตอนนี้ เทปยึดติด(MicroAmpH แสงกาวฟิล์ม ใช้ Biosystems เบเวอร์ลี่แนบกับด้านหลังของภาพนิ่งแก้ว MA, USA) ให้เฉพาะด้านหน้าสไลด์กระจกจะสามารถแกะสลัก เหลือรูปแบบกัดโลหะชั้นถูกเอาออก โดย Cr และอู etchants แล้วและ rinsed (DI) น้ำ deionized ตั้งแต่ภาพนิ่งแต่ละแก้ว(50.8650.8mm2) ประกอบด้วยสี่เหมือน PCR ชิป(25.4625.4mm2), เครื่อง micromachining เลเซอร์ (กรุณา6.120 D สากลเลเซอร์ระบบ Inc. สก็อตส์เดล AZ สหรัฐอเมริกา)ใช้ตัดสไลด์แก้วเดี่ยวเป็นสี่ชิ้น ก่อนที่จะประกอบฮีตเตอร์ และปฏิกิริยาหอแก้วนิ่ง ทางเข้าของและร้านหลุมถูกขุดภาพนิ่งปฏิกิริยาหอแก้วใช้บิตสว่านเคลือบแพลตินัม (UKAM อุตสาหกรรม Superhardเครื่องมือ Valencia แคลิฟอร์เนีย สหรัฐอเมริกา) เพื่อป้องกันการถอดรหัสที่เป็นไปได้ของการระหว่างเจาะกระจกสไลด์ ภาพนิ่งแก้วสนับสนุนแนบอยู่ภาพนิ่งแก้วห้องปฏิกิริยาที่ใช้ขี้ผึ้ง (CrystalBondTM, SPIเวสต์เชสเตอร์ PA สหรัฐอเมริกา) หลังจากเจาะหลุม การสนับสนุนภาพนิ่งแก้วถูกเอาน้ำยาที่เหลือในปฏิกิริยาหอแก้วนิ่งถูกล้าง ด้วยอะซิโตน ยึดระหว่างอุ่นแก้วภาพนิ่งและภาพนิ่ง PCR หอแก้วดำเนินการโดยใช้การ UV รักษากาว (LoctiteH 3492, Henkelหินฮิลล์ CT สหรัฐอเมริกา) มีไมโครชิ PCR ขั้นสุดท้ายแล้วsterilized ใช้การด้วยก่อนใช้

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ไมโครชิปถูกประดิษฐ์โดยใช้ชิ้นงานขนาดเล็กมาตรฐานเทคโนโลยี
สั้น ๆ สำหรับการผลิตเครื่องทำความร้อน, Cr และชั้น Au
(25 และ 200 นาโนเมตรหนา) ถูกวางลงบนแก้ว borofloat สะอาด
(50.8650.860.5mm3) โดยใช้เครื่องระเหย E-คาน photoresist
(MicropositTM S1818, Rohm ฮา-Shipley Company, Inc, มาร์ลโบโรห์, MA, USA) เป็นสปินเคลือบมันและตาราง Spira เครื่องทำความร้อนได้ลวดลายบนชั้นไวแสงโดยใช้ photolithography จำหลักเลือกใช้โลหะ Cr และ Au etchants
ตามมาจากการกำจัดสารไวแสง สำหรับการผลิตห้อง PCR
ในการออกแบบห้องได้รับการวงกลมที่มีลวดลายบนCr / Au
ฝากกระจกสไลด์โดยใช้ขั้นตอนเดียวกันตามที่อธิบายไว้ข้างต้นโดยใช้
photolithography และการแกะสลักโลหะ เพื่อสร้าง 80
มมลึกในห้องสไลด์กระจกสไลด์กระจกที่ครอบคลุมการคัดเลือกที่มีชั้น Cr / Au (หน้ากากจำหลัก) ถูกฝังโดยใช้กรดไฮโดรฟลูออริก (HF 49%, JT เบเกอร์สหรัฐอเมริกา) ก่อนที่จะมีขั้นตอนนี้เทปกาว(MicroAmpH ฟิล์มกาวออปติคอล, Applied Biosystems, เบเวอร์ลี, MA, USA) ติดอยู่ที่ด้านหลังของสไลด์แก้วที่ช่วยให้เพียงด้านหน้าของสไลด์แก้วที่จะฝัง ส่วนที่เหลืออีกชั้นหน้ากากโลหะจำหลักจะถูกลบออกแล้วโดย Cr และ Au etchants และล้างด้วย deionized (DI) น้ำ เนื่องจากแต่ละสไลด์แก้ว(50.8650.8mm2) มีสี่ชิป PCR เหมือนกัน(25.4625.4mm2) ซึ่งเป็นอุปกรณ์เลเซอร์ไมโคร (PLS 6.120D เลเซอร์ระบบสากล, Inc Scottsdale, AZ, USA) ถูกใช้ในการตัดสไลด์แก้วเดียว เป็นสี่ชิ้น ก่อนที่จะประกอบเครื่องทำความร้อนและปฏิกิริยาห้องสไลด์กระจกทางเข้าและทางออกหลุมเจาะบนกระจกสไลด์ปฏิกิริยาห้องโดยใช้สว่านเคลือบทองคำขาวบิต(UKAM อุตสาหกรรม Superhard เครื่องมือวาเลนเซีย, CA, USA) เพื่อป้องกันไม่ให้แตกเป็นไปได้ของสไลด์แก้วในระหว่างการขุดเจาะสไลด์แก้วสนับสนุนติดอยู่กับกระจกปฏิกิริยาห้องสไลด์ใช้ขี้ผึ้ง(CrystalBondTM, SPI, เวสต์เชสเตอร์, PA, สหรัฐอเมริกา) หลังจากเจาะรูที่สนับสนุนสไลด์แก้วจะถูกลบออกและขี้ผึ้งที่เหลืออยู่ในปฏิกิริยากระจกสไลด์ห้องได้รับการทำความสะอาดด้วยอะซีโตน พันธะระหว่างกระจกเครื่องทำภาพนิ่งและสไลด์กระจกห้อง PCR ได้รับการดำเนินการโดยใช้กาวยูวีรักษาได้(LoctiteH 3492 เฮงเค็ล, ร็อคกี้ฮิลล์, CT, USA) ไมโครชิป PCR สุดท้ายก็ผ่านการฆ่าเชื้อโดยใช้หม้อนึ่งความดันก่อนการใช้งาน

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ไมโครชิพ ถูกสร้างขึ้นมาโดยใช้เทคโนโลยี รองรับชิ้นงานขนาดเล็ก
มาตรฐาน สั้น , เครื่องผลิต , CR และ AU
( ชั้น 25 และ 200 nm หนา ) เป็นเงินที่สะอาด borofloat แก้ว
( 50.8650.860.5mm3 ) โดยใช้ e-beam ระเหย ระบบ
( microposittm s1818 Rohm ฮาส Shipley , บริษัท , อิงค์ , มาร์ลโบโรห์ , MA , USA ) คือการหมุนเคลือบมันและเครื่องทำน้ำอุ่น spira สี่เหลี่ยมลวดลายบนชั้น 43 ระบบใช้ . การเลือกใช้โลหะแกะสลัก CR และ AU etchants ตามมา
โดยเอาระบบ . เพื่อร่วมห้องผลิต
การออกแบบห้องวงกลมมีลวดลายบน CR / AU ฝากสไลด์แก้ว
โดยใช้วิธีการเดียวกันตามที่อธิบายไว้ข้างต้น การใช้
43 และโลหะการ . สร้าง 80 มม. ลึก
ห้องกระจกสไลด์ กระจกสไลด์ เลือกที่ปกคลุมด้วย
CR / AU ( กัดชั้นหน้ากาก ) คือการฝังการใช้กรดไฮโดรฟลูออริก
( 49% HF , J.T . Baker , USA ) ก่อนขั้นตอนนี้ เป็นเทปกาว
( microamph แสงกาวฟิล์ม , Applied Biosystems เบเวอรี่
, MA , USA ) อยู่ติดกับด้านหลังของกระจกสไลด์ให้
เพียงด้านหน้าของกระจกสไลด์เป็นรอย . ที่เหลือ
แกะสลักโลหะหน้ากากชั้นถูกลบออกแล้วโดย CR และ AU etchants
คล้ายเนื้อเยื่อประสาน ( DI ) และล้างด้วยน้ำ เนื่องจากแต่ละกระจกสไลด์
( 50.8650.8mm2 ) ประกอบด้วยสี่ชิป PCR เหมือนกัน
( 25.4625.4mm2 ) , เลเซอร์ micromachining อุปกรณ์ ( กรุณา
6.120d สากลระบบเลเซอร์ , อิงค์ , Scottsdale , AZ , USA )
ใช้ตัดสไลด์แก้วเดียวเป็นสี่ชิ้น ก่อน
การประกอบเครื่องและปฏิกิริยาห้องกระจกสไลด์เข้าและรูเจาะบน
เต้าเสียบมีปฏิกิริยาห้องกระจกสไลด์
ใช้แพลทินัมเคลือบเจาะ ( ukam อุตสาหกรรม Superhard
เครื่องมือ , วาเลนเซีย , CA , USA ) เพื่อป้องกันการแตกของกระจกสไลด์เป็นไปได้
ในระหว่างการเจาะ , สนับสนุนกระจกสไลด์ติดมากับ
ปฏิกิริยาห้องกระจกสไลด์โดยใช้ขี้ผึ้ง ( crystalbondtm SPI
, ,เวสต์เชสเตอร์ , PA , USA ) หลังจากการขุดเจาะหลุม การสนับสนุน
กระจกสไลด์ออก และขี้ผึ้งที่เหลือในปฏิกิริยา
ห้องกระจกสไลด์คือล้างด้วยอะซิโตน เชื่อมระหว่าง
ฮีตเตอร์กระจกสไลด์และ PCR ในห้องกระจกสไลด์ถูกดำเนินการโดยใช้กาว UV curable
( loctiteh 3492 Henkel
, , Rocky Hill , CT , สหรัฐอเมริกา ) ไมโครชิพ ซึ่งสุดท้ายแล้ว
การใช้เครื่องนึ่งฆ่าเชื้อก่อนใช้