Sources of this type are generally

Sources of this type are generally operated continuously
using regulated dc power supplies. In our case, however,
using oxygen, the gas will react with the electrode components
and form an oxide, which could readily lead to arcing
on the cathode surface. This situation is well known in the
field of reactive sputter deposition, where a standard solution
involves medium-frequency chopping of the applied cathode

target voltage.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

แหล่งที่มาของชนิดนี้จะโดยทั่วไปดำเนินการอย่างต่อเนื่อง
ใช้ไฟ dc ควบคุมอุปกรณ์ ในกรณี ไร,
ใช้ออกซิเจน ก๊าซจะทำปฏิกิริยากับส่วนประกอบของอิเล็กโทรด
แล้วเป็นออกไซด์ ซึ่งพร้อมอาจคของ
บนผิวแคโทด สถานการณ์นี้เป็นที่รู้จักกันดีในการ
ฟิลด์ของสะสม sputter ปฏิกิริยา สารละลายมาตรฐาน
เกี่ยวข้องกับความถี่กลางสับของแคโทดใช้
เป้าหมายแรงดัน

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

แหล่งที่มาของประเภทนี้มักจะดำเนินการอย่างต่อเนื่อง
โดยใช้อุปกรณ์ไฟฟ้าควบคุม dc ในกรณีของเรา แต่
ใช้ออกซิเจนก๊าซจะทำปฏิกิริยากับชิ้นส่วนอิเลคโทร
และรูปแบบออกไซด์ซึ่งพร้อมที่จะนำไปสู่ลอย
บนพื้นผิวแคโทด สถานการณ์เช่นนี้เป็นที่รู้จักกันดีใน
ด้านการสะสมพ่นปฏิกิริยาที่สารละลายมาตรฐาน
ที่เกี่ยวข้องกับการตัดขนาดความถี่ของแคโทดประยุกต์
? เป้าหมาย? แรงดันไฟฟ้า

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

แหล่งข้อมูลประเภทนี้โดยทั่วไปจะดำเนินการอย่างต่อเนื่อง
ใช้ควบคุมไฟ DC . ในกรณีของเรา , อย่างไรก็ตาม ,
ใช้ออกซิเจน ก๊าซจะทำปฏิกิริยากับไฟฟ้าและส่วนประกอบ
แบบฟอร์มออกไซด์ ซึ่งพร้อมนำ arcing
บนพื้นผิวที่แคโทด สถานการณ์นี้เป็นที่รู้จักกันเป็นอย่างดีในนามของ
รีละล่ำละลักคำให้การของพยาน ซึ่งเป็นโซลูชั่น
มาตรฐานเกี่ยวข้องกับกลางความถี่ตัดของที่ใช้หลอด

เป้าหมาย  แรงดันไฟฟ้า