The subsurface defects characteriza

The subsurface defects characterization and 355 nm nanosecond
laser induced damage performance have been analyzed step
by step for every pretreatment condition in this paper. We can conclude
that most of metal impurities defects (especially for Ce element)
of fused silica can be dissolved and damage performance
increase correspondingly by strong acid solution. Laser damage
resistance of fused silica optics is further improved through the removal
of subsurface damage which is removed by HF-based etchants.
As a synthetical and macroscopic characterization of all
microscopic defects, thermal absorption has a good correlation
with laser-induced damage performance. The width and depth of
etched open cracks, the surface roughness and the impurities
deposited on optics surface all increase with the etching process
when the HF-based etching depth exceeds one value. These factors
maybe cause the deterioration of laser damage performance for
deep etched sample. Hence, it is necessary to monitor and control

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ดินลักษณะข้อบกพร่องและ 355 นาโนเมตร nanosecond
เลเซอร์ประสิทธิภาพเหนี่ยวนำให้เกิดความเสียหายได้รับการวิเคราะห์ขั้นตอนโดยขั้นตอนทุกสภาพการปรับสภาพในเอกสารนี้
เราสามารถสรุปได้ว่าส่วนใหญ่ของข้อบกพร่องสิ่งสกปรกโลหะ (โดยเฉพาะสำหรับองค์ประกอบซีอี) ของซิลิกาหลอมละลายสามารถละลายและประสิทธิภาพการทำงานให้เกิดความเสียหายเพิ่มขึ้นตามลําดับโดยสารละลายกรดที่แข็งแกร่ง เลเซอร์ความเสียหายต้านทานของเลนส์ผสมซิลิกามีการปรับปรุงเพิ่มเติมผ่านการกำจัดของความเสียหายดินซึ่งจะถูกลบออกโดยetchants HF-based. ในฐานะที่เป็นสังเคราะห์และลักษณะเปล่าของทุกข้อบกพร่องกล้องจุลทรรศน์การดูดซึมความร้อนมีความสัมพันธ์ที่ดีกับประสิทธิภาพการทำงานให้เกิดความเสียหายที่เกิดขึ้นเลเซอร์ ความกว้างและความลึกของฝังรอยแตกเปิดพื้นผิวที่ขรุขระและสิ่งสกปรกสะสมบนพื้นผิวเลนส์เพิ่มขึ้นทั้งหมดที่มีขั้นตอนการแกะสลักเมื่อแกะสลักลึกHF-based เกินหนึ่งค่า ปัจจัยเหล่านี้อาจจะทำให้เกิดการเสื่อมสภาพของประสิทธิภาพการทำงานของเลเซอร์ความเสียหายสำหรับตัวอย่างฝังลึก ดังนั้นจึงเป็นสิ่งที่จำเป็นในการตรวจสอบและการควบคุม

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ข้อบกพร่องลักษณะและระดับ 355 nm เลเซอร์เหนี่ยวนาโนวินาที
การแสดงความเสียหายได้วิเคราะห์ขั้นตอนโดยขั้นตอนสำหรับทุกการ
ภาพในกระดาษนี้ เราสามารถสรุปได้ว่าส่วนใหญ่ของข้อบกพร่องสิ่งสกปรกโลหะ

( โดยเฉพาะ CE องค์ประกอบ ) ของซิลิกาสามารถละลายและความเสียหายเพิ่มประสิทธิภาพ
ต้องกันด้วยสารละลายกรด
ความเสียหายเลเซอร์ความต้านทานของซิลิกา เลนส์จะปรับปรุงเพิ่มเติมผ่านการกำจัดของดินเสียหาย
ซึ่งถูกถอดออกโดย HF ที่ใช้ etchants .
เป็นลักษณะของข้อบกพร่องและประกอบขึ้นด้วยสารดูดซับความร้อนได้หมด

ความสัมพันธ์ที่ดีกับ laser-induced แสดงความเสียหาย ความกว้างและความลึกของ
สลักแตก พื้นผิวขรุขระ และสิ่งสกปรก
ฝากบนพื้นผิวทั้งหมด เลนส์เพิ่ม ด้วยกระบวนการกัด
เมื่อ HF ตามความลึกเกินกว่าหนึ่งกัดค่า ปัจจัยเหล่านี้อาจทำให้เกิดการเสื่อมสภาพของงาน

ลึกความเสียหายเลเซอร์แกะสลักตัวอย่าง ดังนั้นจึงเป็นสิ่งที่จำเป็นในการตรวจสอบและควบคุม