The substrates were dipped in4 M Na

The substrates were dipped in
4 M NaOH solutions for 15 min to remove the acidic contamination.
After that the substrates were washed with distilled water
and then kept in acetone for 10 min.

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

พื้นผิวที่ถูกจุ่มลงใน
4 M NaOH โซลูชั่นสำหรับ 15 นาทีเพื่อขจัดสิ่งปนเปื้อนที่เป็นกรด.
หลังจากนั้นพื้นผิวที่ถูกล้างด้วยน้ำกลั่น
และเก็บไว้แล้วในอะซีโตนเป็นเวลา 10 นาที

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

เมื่อถูกจุ่มลงใน
4 M NaOH โซลูชั่นสำหรับ 15 นาทีเพื่อขจัดการปนเปื้อนกรด
หลังจากนั้นสารอาหารถูกล้างด้วยน้ำกลั่น
แล้วเก็บ ) นาน 10 นาที