Instead, freshly etch marks (15–30μ

Instead, freshly etch marks (15–30
μm), slits and etching cells processes in the slits (Rützler &
Rieger, 1973; Pomponi, 1979)

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

แทนสดกัดเครื่องหมาย (15-30
ไมครอน), รอยแยกและเซลล์แกะสลักกระบวนการในรอยแยก (rützler&
rieger 1973; pomponi, 1979)

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

แทน กัดเครื่องสด (15–30
μm), slits และเซลล์กระบวนการ slits ในการแกะสลัก (Rützler &
Rieger, 1973 Pomponi, 1979)

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

แทนที่สดใหม่แกะรอย(μ m 15-30 15-30 15-30
)หรี่ปรือตลอดศกเหมือนเซลล์และกระบวนการในการทำแม่พิมพ์หรี่ปรือตลอดศกเหมือน( rützler &
rieger 1973 pomponi 1979 )