For lower Si/Al ratio clinoptilolite which protected by four ligand aluminum electric field, the OH will not cause damage of silicon in the clinoptilolite framework, only selective dissolution of amorphous silicon
For lower Si/Al ratio clinoptilolite whichprotected by four ligand aluminum electric field, the OH will notcause damage of silicon in the clinoptilolite framework, only selectivedissolution of amorphous silicon
เพื่อลดอัตราส่วน Si / Al ไคลน็อพติโลไลท์ซึ่ง ป้องกันโดยสี่ลิแกนด์อลูมิเนียมไฟฟ้าสนาม โอ้ จะไม่ ก่อให้เกิดความเสียหายของซิลิคอนในไคลน็อพติโลไลท์กรอบเพียงตัวเลือก ของซิลิคอนอสัณฐาน