amplified magnetron sputtering. The

amplified magnetron sputtering. The secondary discharge typically creates plasma with electron density in the range of 1017–1018 m3 and with electron temperature in the range of 1.5–4.5V, 91,92 which corresponds to electron

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

พ่น magnetron amplified ปล่อยรองโดยทั่วไปสร้างพลาสม่า กับความหนาแน่นของอิเล็กตรอนในช่วง 1017 – 1018 ม. 3 และอุณหภูมิอิเล็กตรอนในช่วง 1.5-4.5V, 91,92 ซึ่งตรงกับอิเล็กตรอน

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

Ampli ไฟเอ็ดแมกสปัตเตอร์ ปล่อยรองมักจะสร้างพลาสม่าที่มีความหนาแน่นของอิเล็กตรอนในช่วง 1017-1018 เมตร 3 และมีอุณหภูมิอิเล็กตรอนในช่วง 1.5-4.5V, 91,92 ซึ่งสอดคล้องกับอิเล็กตรอน

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ampli จึงเอ็ดตรอนสปัตเตอริง . การมัธยมศึกษา มักจะสร้างพลาสมาที่มีความหนาแน่นของอิเล็กตรอนในช่วง 1017 – 1018 M  3 และอุณหภูมิอิเล็กตรอนในช่วง 1.5 – 4.5v 91,92 , ซึ่งสอดคล้องกับอิเล็กตรอน