RCA clean is used to remove organic

RCA clean is used to remove organic residues from silicon wafers. In the process, it
oxidizes the silicon and leaves a thin oxide on the surface of the wafer. The general
recipe is for RCA-1 cleanser is: 5 parts water (H2O), 1 part 27% ammonium hydroxide
(NH4oH), 1 part 30%hydrogen peroxide (H2O2). Here is how to prepare it.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ใช้ RCA สะอาดจะออกตกอินทรีย์รับซิลิคอน ในกระบวนการ มันoxidizes ซิลิคอน และออกจากออกไซด์บาง ๆ บนพื้นผิวของแผ่นเวเฟอร์ โดยทั่วไปเป็นสูตรสำหรับน้ำยาอาร์ซีเอ-1:5 ส่วนน้ำ (H2O), ไฮดรอกไซด์แอมโมเนีย 27% 1 ส่วน(NH4oH), 1 ส่วน 30% ไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ (H2O2) นี่คือวิธีการเตรียม

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

อาร์ซีเอที่สะอาดใช้ในการลบตกค้างอินทรีย์จากเวเฟอร์ซิลิกอน ในกระบวนการที่มัน
oxidizes ซิลิกอนและใบออกไซด์บาง ๆ บนพื้นผิวของแผ่นเวเฟอร์ ทั่วไป
สูตรสำหรับอาร์ซีเอ-1 น้ำยาทำความสะอาดคือ 5 ส่วนน้ำ (H2O) 1 ส่วน 27% แอมโมเนียมไฮดรอกไซ
(NH4oH) 1 ส่วน 30% ไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ (H2O2) นี่คือวิธีการเตรียมความพร้อม

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

อาร์ซีเอทำความสะอาดใช้ในการเอาสารอินทรีย์จากซิลิคอนเวเฟอร์ ในกระบวนการ มัน
oxidizes ซิลิคอนออกไซด์และใบบางๆ บนพื้นผิวของเวเฟอร์ สูตรทั่วไป
เป็น rca-1 ล้างหน้า : 5 ส่วน น้ำ ( H2O ) 1 ส่วน แอมโมเนียน้ำ 27%
( nh4oh ) 1 ส่วน 30% ไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ ( H2O2 ) นี่คือวิธีการเตรียม