Under these circumstances, the auth

Under these circumstances, the authors have been working to develop a new harmless, high-efficiency slurry based on the processing mechanism of mechanochemical polishing. The following describes MCP of wafers for compound semiconductors by using GaAs and CdTe crystals.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ภายใต้สถานการณ์เหล่านี้ ผู้เขียนได้ทำงานในการพัฒนาแบบใหม่อันตราย มี ประสิทธิภาพสูงน้ำตามกลไกกระบวนการขัด mechanochemical ต่อไปนี้อธิบาย MCP ของรับสำหรับอิเล็กทรอนิกส์ผสม โดยใช้ผลึก CdTe และ GaAs

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ภายใต้สถานการณ์เหล่านี้ผู้เขียนได้รับการทำงานในการพัฒนาใหม่ไม่เป็นอันตรายสารละลายที่มีประสิทธิภาพสูงขึ้นอยู่กับกลไกการประมวลผลของการขัด mechanochemical ต่อไปนี้จะอธิบาย MCP เวเฟอร์เซมิคอนดักเตอร์สารโดยใช้ GaAs และคริสตัล CdTe

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ภายใต้สถานการณ์เหล่านี้ ผู้เขียนได้ทำงานเพื่อพัฒนาใหม่ อันตราย เสียประสิทธิภาพสูง ตามกลไกของกระบวนการขัด mechanochemical . ต่อไปนี้จะอธิบายถึง MCP ของเวเฟอร์เซมิคอนดักเตอร์สารประกอบสำหรับใช้ใน cdte และผลึก