It is known that holes and electron

It is known that holes and electrons,generated through UV illumination,have to be separated and have to reach the surface in order to allow the electrochemical reaction with pollutants and water to proceed.Photocatalytic activity strongly depends on the
synthesis method of the material.Atomic layer deposition(ALD)is a technique that allows a very precise film thickness control,which is uniform even on nanos-tructured substrates. Moreover,it allows to grow films at re-latively low temperatures. Changing growth temperature also enables the deposition of films with different structure and surface
roughness.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

เป็นที่รู้จักกันว่า หลุมอิเล็กตรอน สร้างผ่าน UV รัศมี ต้องแยกออก และมีถึงพื้นผิวเพื่อให้ปฏิกิริยาไฟฟ้าเคมีกับสารมลพิษน้ำเพื่อดำเนินต่อ กิจกรรมกระอย่างยิ่งขึ้นอยู่กับการวิธีการสังเคราะห์วัสดุ ชั้นอะตอมสะสม (ALD) เป็นเทคนิคที่ช่วยให้แม่นยำมากฟิล์มหนาควบคุม ซึ่งเป็นเครื่องแบบแม้ในพื้นผิว nanos tructured นอกจากนี้ จะช่วยให้การปลูกฟิล์มที่อุณหภูมิต่ำ re latively การเปลี่ยนแปลงอุณหภูมิเติบโตยังช่วยให้สะสมของฟิล์มมีโครงสร้างแตกต่างกันและพื้นผิวความหยาบ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

เป็นที่รู้จักกันว่าหลุมและอิเล็กตรอนสร้างขึ้นผ่านการส่องสว่างยูวีจะต้องมีการแยกจากกันและต้องไปให้ถึงพื้นผิวเพื่อให้เกิดปฏิกิริยาไฟฟ้าเคมีที่มีมลพิษทางน้ำและกิจกรรม proceed.Photocatalytic
ขอขึ้นอยู่กับวิธีการสังเคราะห์material.Atomic การสะสมชั้น (มรกต) เป็นเทคนิคที่ช่วยให้ภาพยนตร์ที่แม่นยำมากการควบคุมความหนาซึ่งเป็นเครื่องแบบแม้บนพื้นผิวนาโน-tructured นอกจากนี้ยังจะช่วยให้การเติบโตภาพยนตร์ที่ใหม่ latively อุณหภูมิต่ำ
การเปลี่ยนแปลงอุณหภูมิยังช่วยให้การเจริญเติบโตของการสะสมของภาพยนตร์ที่มีโครงสร้างที่แตกต่างกันและพื้นผิวที่ขรุขระ