ZnO is an important electronic and photonic materials because of its wide direct band gap of 3.37 eV [1]. As a result, it stimulates a wide range of research interest.For example, potential applications for solar cells[2,3], nanoclusters [4,5], and other highly functional and effective devices [6,7] are in discussion. Many efforts have been made to fabricate one-dimensional ZnO, for example, by the high-temperature physical evaporation [8], the microemulsion hydrothermal process [9], the template-induced method [10], wet chemical method [11], respectively.
ZnO เป็นวัสดุอิเล็กทรอนิกส์ และ photonic เป็นสำคัญเนื่องจากช่องว่างของวงกว้างตรงของ 3.37 eV [1] ดังนั้น มันกระตุ้นความหลากหลายของงานวิจัยที่สนใจตัวอย่าง โปรแกรมประยุกต์อาจเกิดขึ้นสำหรับเซลล์พลังงานแสงอาทิตย์ [2,3], [4,5] nanoclusters และอุปกรณ์อื่น ๆ ทำงานสูง และมีประสิทธิภาพ [6,7] อยู่ในการสนทนา ในความพยายามทำเพื่อสาน one-dimensional ZnO เช่น โดยที่อุณหภูมิสูงทางกายภาพระเหย [8], microemulsion hydrothermal กระบวนการ [9], วิธีทำให้เกิดต้นแบบ [10], เปียกวิธีเคมี [11], ตามลำดับ
การแปล กรุณารอสักครู่..
![](//thimg.ilovetranslation.com/pic/loading_3.gif?v=b9814dd30c1d7c59_8619)
ซิงค์ออกไซด์เป็นสำคัญอิเล็กทรอนิกส์และวัสดุโฟโตนิกส์เพราะมีวงตรงช่องว่างที่กว้าง 3.60 EV [ 1 ] เป็นผลให้กระตุ้นหลากหลายของงานวิจัยที่สนใจ เช่น การใช้งานที่มีศักยภาพสำหรับเซลล์แสงอาทิตย์ [ 2 , 3 ] nanoclusters [ 4 , 5 ] และอื่น ๆใช้งานได้สูงและมีประสิทธิภาพอุปกรณ์ [ 6 , 7 ] กำลังสนทนากันอยู่ มีความพยายามที่จะสร้างมิติ ZnO , ตัวอย่างเช่นโดยการระเหยร่างกายที่มีอุณหภูมิสูง [ 8 ] , ไมโครอิมัลชันด้วยกระบวนการ [ 9 ] , แม่แบบและวิธีการ [ 10 ] [ 11 ] วิธีเคมีเปียกตามลำดับ
การแปล กรุณารอสักครู่..
![](//thimg.ilovetranslation.com/pic/loading_3.gif?v=b9814dd30c1d7c59_8619)