Fig. 2.18. Schematic of a typical i

Fig. 2.18. Schematic of a typical ion implantation equipment, including an ion source (1), a primary acceleration and an analyzing magnet (2), an acceleration tube (3), a collimating and rastering magnets (4), and the sample to be implanted.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

มะเดื่อ 2.18 แผนผังของอุปกรณ์ฝังไอออนทั่วไปรวมทั้งแหล่งที่มาของไอออน (1) การเร่งระดับประถมศึกษาและแม่เหล็กวิเคราะห์ (2) หลอดเร่ง (3), collimating และ rastering แม่เหล็ก (4) และตัวอย่างที่จะได้รับการปลูกฝัง

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

Fig. 2.18 Schematic ของอุปกรณ์ประดิษฐ์เป็นไอออนทั่วไป รวมทั้งแหล่งไอออน (1), เร่งหลักแม่เหล็กการวิเคราะห์ (2), ท่อการเร่งความเร็ว (3), แม่ collimating และ rastering เหล็ก (4), และตัวอย่างการถูก implanted

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

รูป. 2.18 . ซึ่งมีลักษณะเป็นแผนของอุปกรณ์ปลูกไอออนแบบดั้งเดิมรวมถึงแหล่งที่มาไอออน( 1 )การเร่งความเร็วหลักและแม่เหล็กการวิเคราะห์ที่( 2 )การเร่งความเร็วที่ท่อดูดฝุ่น( 3 ) collimating และแม่เหล็ก, Rastering หลายเส้น,เส้น( 4 )และตัวอย่างที่จะปลูกถ่าย.