X-PEEM in combination with XPS, ToF

X-PEEM in combination with XPS, ToF-SIMS and UV–vis techniques
has been effectively used for the study of surface chemistry of Cp particles
of size d80 of 20 μmat oxidative and reductive pulp conditions. For
Cp treatedwith xanthate at an oxidative pulp potential, TEY Cu L3 and Fe
L2,3-edge NEXAFS spectra have shown the surface of the Cp was mildly
oxidised and covered with adsorbed molecular CuEX. A small amount
of FeIII oxidation products was observed. When the Eh was reduced to
−100 mV, an increase in concentration of CuI and FeIII oxides and
hydroxideswere detected. Cu L3-edge NEXAFS has also shown the presence
of low percentages of CuII oxides (CuO or Cu(OH)2) and a thicker
internal layer of CuI oxide (Cu2O). Extensive oxidation of Cp particles
caused low recovery at reductive pulp conditions. In each case, there
were small changes in surface speciation between particles.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

X-PEEM ร่วมกับเทคนิค XPS, ToF ซิมส์ และ UV – visได้อย่างมีประสิทธิภาพใช้สำหรับวิชาเคมีพื้นผิวของอนุภาคของ Cpของ d80 ขนาด 20 สภาพเยื่อ oxidative และกล้าหาญ μmat สำหรับXanthate treatedwith cp ที่ศักยภาพการเยื่อ oxidative อังกฤษ Cu L3 และ FeL2 แรมสเป็คตรา NEXAFS 3-ขอบได้แสดงพื้นผิวของ Cp ถูก mildlyoxidised และปกคลุมด้วย adsorbed โมเลกุล CuEX เล็กน้อยผลิตภัณฑ์ออกซิเดชัน FeIII ถูกตรวจสอบ เมื่อ Eh ที่ถูกลดลงไป−100 mV การเพิ่มความเข้มข้นของออกไซด์ CuI และ FeIII และhydroxideswere ที่ตรวจพบ Cu L3-ขอบ NEXAFS ยังมีปรากฏอยู่เปอร์เซ็นต์ต่ำสุดของออกไซด์ CuII (CuO หรือ Cu(OH)2) และตัวหนาชั้นภายในของนคุยออกไซด์ (Cu2O) เกิดออกซิเดชันอย่างละเอียดของอนุภาค Cpเกิดฟื้นต่ำที่สภาพเยื่อกล้าหาญ ในแต่ละกรณี มีมีเปลี่ยนแปลงเล็กน้อยในการเกิดสปีชีส์ใหม่ผิวระหว่างอนุภาค

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

X-PEEM ร่วมกับ XPS, ToF-SIMS และเทคนิค UV-Vis
ได้รับการใช้อย่างมีประสิทธิภาพสำหรับการศึกษาของเคมีพื้นผิวของอนุภาค Cp
ของ D80 ขนาดของออกซิเดชัน 20 μmatและเงื่อนไขในการผลิตเยื่อกระดาษที่ลดลง สำหรับ
Cp treatedwith xanthate ที่มีศักยภาพเยื่อออกซิเดชัน, ใบเตย Cu L3 และเฟ
L2,3 ขอบ NEXAFS สเปกตรัมได้แสดงให้เห็นพื้นผิวของ Cp ถูกอย่างอ่อนโยน
เหลี่ยมและปกคลุมด้วยโมเลกุลดูดซับ CuEX จำนวนเงินขนาดเล็ก
ของ FeIII ผลิตภัณฑ์ออกซิเดชันเป็นที่สังเกต เมื่อเอ๊ะก็จะลดลง
-100 mV, การเพิ่มขึ้นของความเข้มข้นของ Cui และออกไซด์ FeIII และ
hydroxideswere ตรวจพบ Cu NEXAFS L3 ขอบยังได้แสดงให้เห็นการปรากฏตัว
ของอัตราต่ำออกไซด์ CuII (CuO หรือ Cu (OH) 2) และความหนา
ชั้นภายในของ Cui ออกไซด์ (Cu2O) ออกซิเดชันที่กว้างขวางของอนุภาค Cp
ที่เกิดจากการกู้คืนในระดับต่ำที่เงื่อนไขเยื่อกระดาษลดลง ในแต่ละกรณีมี
การเปลี่ยนแปลงเล็ก ๆ ใน speciation พื้นผิวระหว่างอนุภาค

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

x-peem ร่วมกับ XPS ระบบ tof – UV VIS และเทคนิค
ได้รับการใช้อย่างมีประสิทธิภาพเพื่อการศึกษาเคมีพื้นผิวของอนุภาค CP
) ขนาด 20 μปฏิกิริยา reductive และเสื่อสภาพเยื่อ . สำหรับ
CP treatedwith แซนที่ศักยภาพผลิตออกซิเดชันกับเต้ย ทองแดงและเหล็ก l2,3-edge L3
nexafs สเปกตรัมแสดงพื้นผิวของ CP ก็แผ่ว
หมดและปกคลุมด้วยดูดซับโมเลกุล cuex . เป็นจำนวนเงินขนาดเล็กของผลิตภัณฑ์ feiii
ออกซิเดชัน พบ . ตอนที่เอ๋เหลือ
− 100 มิวสิควีดีโอ เพิ่มความเข้มข้นของชเว feiii และออกไซด์และ
hydroxideswere ตรวจพบ ลบขอบ nexafs L3 ยังแสดงสถานะ
ค่าต่ำของ cuii ออกไซด์ ( 2 ( หรือ CU ( OH ) 2 ) และความหนาของออกไซด์
ภายในชั้นซุย ( cu2o )ออกซิเดชันอย่างละเอียดของอนุภาค CP
ต่ำกู้ที่สภาวะเยื่อลดลง . ในแต่ละกรณีมีการเปลี่ยนแปลงเล็ก ๆในสปีชีย์
มีพื้นผิวระหว่างอนุภาคอธิบายเงื่อนไขการกู้คืนที่ลดลงต่ำ Cp
( เอ๊ะ ~ − 100 หาบและ pH 9 )