Pure silica was extracted by reflux

Pure silica was extracted by refluxing with
6 N HCI for 4 h and then washed repeatedly
using deionised water to make it acid free. It
was then dissolved in 2, 2.5 and 3.0 N NaOH
by continuous stirring for 10 h on a magnetic
stirrer and then concentrated H2SO4 was
added to adjust pH in the range of 7.5-8.5.
The precipitated silica was washed repeatedly
with warm deionised water until the filtrate
became completely alkali free. The washing
process continued by deionised water
repeatedly and dried at 50 oC for 48 h in the
oven.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ซิลิก้าบริสุทธิ์ถูกสกัด โดย refluxing ด้วยHci N 6 สำหรับ 4 h แล้ว ล้างซ้ำใช้น้ำ deionised เพื่อให้กรดฟรี มันที่ละลายแล้วใน 2, 2.5 และ 3.0 N NaOHโดยกวนอย่างต่อเนื่องสำหรับ h 10 บนเป็นแม่เหล็กช้อนคน และกำมะถันที่เข้มข้นได้ที่แล้วเพิ่มการปรับ pH ในช่วง 7.5-8.5ซิลิก้า precipitated ถูกล้างซ้ำน้ำอุ่น deionised จนการสารกรองเป็นด่างฟรีทั้งหมด เครื่องซักผ้ากระบวนการอย่างต่อเนื่อง โดยน้ำ deionisedซ้ำ ๆ และแห้งที่ 50 องศาเซลเซียสสำหรับ h 48 ในเตาอบ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ซิลิกาบริสุทธิ์สกัดจากกรดที่มี
6 N HCI 4 ชั่วโมงแล้วล้างซ้ำ
ด้วยน้ำ deionised ที่จะทำให้มันเป็นกรดฟรี มัน
ก็เลือนหายไปแล้วใน 2, 2.5 และ 3.0 N NaOH
โดยกวนอย่างต่อเนื่องเป็นเวลา 10 ชั่วโมงในแม่เหล็ก
กวนและจากนั้นความเข้มข้น H2SO4 ถูก
เพิ่มเพื่อปรับค่า pH อยู่ในช่วง 7.5-8.5.
ซิลิกาตกตะกอนถูกล้างซ้ำ
ด้วยน้ำอุ่นจน deionised กรอง
กลายเป็นอัลคาไลสมบูรณ์ฟรี ซักผ้า
กระบวนการอย่างต่อเนื่องโดยน้ำ deionised
ซ้ำและแห้งที่ 50 องศาเซลเซียสเป็นเวลา 48 ชั่วโมงใน
เตาอบ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ซิลิกาบริสุทธิ์สกัดจากกรดกับ
6 N กรดไฮโดรคลอริกสำหรับ 4 ชั่วโมงแล้วล้างซ้ำด้วยน้ำ
deionised ให้กรดฟรี มัน
แล้วละลายใน 2 , 2.5 และ 3.0 N NaOH
โดยต่อเนื่อง 10 ชั่วโมงบนกวน stirrer แม่เหล็กและกรดซัลฟิวริกเข้มข้นอยู่แล้ว

เพิ่มการปรับ pH ของ 7.5-8.5 .

กับซิลิกาล้างซ้ำ deionised น้ำอุ่นจนกรอง
ด่างเป็นสมบูรณ์ฟรี ล้างต่อด้วยน้ำ

deionised ซ้ำๆ อบแห้งที่อุณหภูมิ 50 องศาเซลเซียสเป็นเวลา 48 ชั่วโมงใน
เตาอบ