The percent removal (h%) of metal i

The percent removal (h%) of metal ions on the active groups
such as OH and NH2 depends on the molecular structure of the
sorbent compounds, which bind to the metal ions by coordination
bonds. The proposed adsorption of the transition metals by
the chitosan and its derivatives were represented in Fig. 8.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

เอาเปอร์เซ็นต์ (h %) ของประจุโลหะในกลุ่มใช้งานอยู่เช่น OH และ NH2 ขึ้นอยู่กับโครงสร้างระดับโมเลกุลของการสารดูดซับ ซึ่งผูกกับประจุโลหะ โดยการประสานงานพันธบัตร ดูดซับนำเสนอของโลหะเปลี่ยนแปลงโดยไคโตซานและอนุพันธ์มีแสดงใน Fig. 8

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ลบร้อยละ (h%) ของโลหะไอออนในกลุ่มที่ใช้งาน
เช่น OH NH2 และขึ้นอยู่กับโครงสร้างโมเลกุลของ
สารดูดซับซึ่งผูกกับโลหะไอออนโดยการประสานงาน
การออกพันธบัตร การดูดซับเสนอของโลหะการเปลี่ยนแปลงโดย
ไคโตซานและอนุพันธ์เป็นตัวแทนในรูป 8

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

และการกำจัด ( H ) ของไอออนโลหะในกลุ่มงาน
เช่นโอ้และ nh2 ขึ้นอยู่กับโครงสร้างโมเลกุลของ
ดูดซับสารประกอบซึ่งผูกกับโลหะไอออน โดยพันธบัตรประสานงาน

เสนอการดูดซับของโลหะทรานซิชันโดย
และอนุพันธ์ไคโตซานมีแสดงในรูปที่ 8