regen condensate polishing unit due

regen condensate polishing unit due to Nacl high 103.1PPM.
and service A-Kool tower during step rinse.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

regen คอนเดนเสทที่ขัดต่อหน่วยเนื่องจาก Nacl สูง 103.1 PPM.
ทาวเวอร์ A คูลบริการระหว่างขั้นตอนการล้างและการ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ฟื้นฟูขัดคอนเดนเสทหน่วยเนื่องจาก 103.1PPM Nacl สูง
และบริการที่คูลหอในระหว่างขั้นตอนการล้าง

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ต่อหน่วยเนื่องจาก regen ขัดเกลือ 103.1ppm สูง .
และอาคาร a-kool บริการในระหว่างขั้นตอนล้าง .