Plasma etching is a form of plasma

Plasma etching is a form of plasma processing used to fabricate integrated circuits. It involves a high-speed stream of glow discharge (plasma) of an appropriate gas mixture being shot (in pulses) at a sample. The plasma source, known as etch species, can be either charged (ions) or neutral (atoms and radicals). During the process, the plasma will generate volatile etch products at room temperature from the chemical reactions between the elements of the material etched and the reactive species generated by the plasma. Eventually the atoms of the shot element embed themselves at or just below the surface of the target, thus modifying the physical properties of the target

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

แกะสลักพลาสม่าคือ รูปแบบของการประมวลผลของพลาสม่าที่ใช้ในการประดิษฐ์วงจรรวม มันเกี่ยวข้องกับกระแสปล่อยเรืองแสง (พลาสม่า) ผสมก๊าซถูกยิง (ในกะพริบ) ดูตัวอย่างความเร็วสูง พลาสม่าแหล่งที่มา ชื่อว่ากัดพันธุ์ สามารถ (ประจุบวก) หรือเป็นกลาง (อะตอมและอนุมูล) ในระหว่างกระบวนการ จะสร้างพลาสม่าระเหยสลักผลิตภัณฑ์ที่อุณหภูมิห้องจากปฏิกิริยาเคมีระหว่างองค์ประกอบของวัสดุที่แกะสลักและพันธุ์ปฏิกิริยาที่สร้างขึ้น โดยพลาสม่า ในที่สุดอะตอมองค์ประกอบยิงฝังเองที่ หรือ ใต้พื้นผิวของเป้าหมาย ดังนั้น การปรับเปลี่ยนคุณสมบัติทางกายภาพของเป้าหมาย

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

พลาสม่าแกะสลักเป็นรูปแบบของการประมวลผลพลาสม่าที่ใช้ในการผลิตแผงวงจรรวม มันเกี่ยวข้องกับกระแสความเร็วสูงของการปล่อยเรืองแสง (Plasma) ของส่วนผสมของก๊าซที่เหมาะสมถูกยิง (ในพัลส์) ในตัวอย่าง แหล่งที่มาพลาสม่าที่รู้จักกันเป็นสายพันธุ์กัดสามารถเรียกเก็บเงินอย่างใดอย่างหนึ่ง (ไอออน) หรือเป็นกลาง (อะตอมและอนุมูล) ในระหว่างกระบวนการพลาสม่าจะสร้างผลิตภัณฑ์จำหลักระเหยที่อุณหภูมิห้องจากปฏิกิริยาทางเคมีระหว่างองค์ประกอบของวัสดุฝังและสายพันธุ์ที่มีปฏิกิริยาที่เกิดจากพลาสม่า ในที่สุดอะตอมของธาตุยิงฝังตัวเองที่ด้านล่างหรือเพียงแค่พื้นผิวของเป้าหมายดังนั้นการปรับเปลี่ยนคุณสมบัติทางกายภาพของเป้าหมาย

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

พลาสมาพลาสมาแกะสลักเป็นรูปแบบของการประมวลผลที่ใช้สร้างวงจรแบบบูรณาการ มันเกี่ยวข้องกับการไหลความเร็วสูงของการเรืองแสง ( พลาสมา ) ของก๊าซผสมที่เหมาะสมถูกยิง ( กะพริบ ) ในตัวอย่าง พลาสมาแหล่งที่เรียกว่ากัดชนิด สามารถคิดค่าบริการ ( ไอออน ) หรือเป็นกลาง ( อะตอมและอนุมูลอิสระ ) ในระหว่างกระบวนการ พลาสม่าจะสร้างสารกัดกร่อน ผลิตภัณฑ์ที่ อุณหภูมิห้อง จากปฏิกิริยาทางเคมีระหว่างองค์ประกอบของวัสดุที่แกะสลักและรีแอกทีฟชนิดที่เกิดจากพลาสมา ในที่สุดอะตอมของธาตุที่ยิงฝังตัวเองหรือเพียงแค่ด้านล่างพื้นผิวของชิ้นงาน โดยการปรับเปลี่ยนคุณสมบัติทางกายภาพของเป้าหมาย