The target to substrate distance wa

The target to substrate distance was kept constant at 45 mm for all the depositions.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

เป้าหมายในระยะทางที่พื้นผิวถูกเก็บไว้คงที่ที่ 45 มม. เพื่อ depositions ทั้งหมด

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

เป้าหมายที่จะห่างจากพื้นผิวถูกเก็บค่าคงที่ที่ 45 มมสำหรับ depositions ทั้งหมด

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

เป้าหมายในระยะไกลเป็นสารที่ได้รับการดูแลรักษาอย่างต่อเนื่อง 45 มม.สำหรับการจัดงานทั้งหมด