The percent removal (h%) of metal i

The percent removal (h%) of metal ions on the active groups
such as OH and NH2 depends on the molecular structure of the
sorbent compounds, which bind to the metal ions by coordination
bonds. The proposed adsorption of the transition metals by
the chitosan and its derivatives were represented in Fig. 8. In our
results, we found that the percent removal of the different metal
ions on the surfaces of compounds (I) and (II) are lower than
chitosan itself. That can be attributed to the formation of the
intra-molecular hydrogen bonding between the substitution
groups and unit monomer of chitosan, which leads to the
decrease in the free active groups such as OH and NH2 on
the chitosan. That causes a lower in the percent removal of
metal ions. While in chitosan free which reaching by free
active groups, ceasing a higher adsorption capacity than its
derivatives.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

เอาเปอร์เซ็นต์ (h %) ของประจุโลหะในกลุ่มใช้งานอยู่เช่น OH และ NH2 ขึ้นอยู่กับโครงสร้างระดับโมเลกุลของการสารดูดซับ ซึ่งผูกกับประจุโลหะ โดยการประสานงานพันธบัตร ดูดซับนำเสนอของโลหะเปลี่ยนแปลงโดยไคโตซานและอนุพันธ์มีแสดงใน Fig. 8 ในของเราผล เราพบว่าเอาเปอร์เซ็นต์ของโลหะต่าง ๆประจุบนพื้นผิวของสาร (I) และ (II) จะต่ำกว่าไคโตซานเอง ที่สามารถเกิดจากการก่อตัวของการไฮโดรเจนภายในโมเลกุลที่ยึดติดระหว่างการแทนที่กลุ่มและหน่วยน้ำยาของไคโตซาน ซึ่งนำไปสู่การลดลงในกลุ่มที่ใช้งานฟรี OH และ NH2 ในไคโตซาน ที่ทำให้ที่ต่ำกว่าในการกำจัดร้อยละประจุโลหะ ขณะที่เข้าถึง โดยฟรีในไคโตซานฟรีกลุ่มที่ใช้งานอยู่ หยุดความจุการดูดซับสูงกว่าของตราสารอนุพันธ์

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ลบร้อยละ (h%) ของโลหะไอออนในกลุ่มที่ใช้งาน
เช่น OH NH2 และขึ้นอยู่กับโครงสร้างโมเลกุลของ
สารดูดซับซึ่งผูกกับโลหะไอออนโดยการประสานงาน
การออกพันธบัตร การดูดซับเสนอของโลหะการเปลี่ยนแปลงโดย
ไคโตซานและอนุพันธ์เป็นตัวแทนในรูป 8. ในของเรา
ผลเราพบว่าการกำจัดเปอร์เซ็นต์ของโลหะที่แตกต่างกัน
ไอออนบนพื้นผิวของสาร (ฉัน) และ (II) จะต่ำกว่า
ไคโตซานเอง ที่สามารถนำมาประกอบกับการก่อตัวของ
ไฮโดรเจนภายในโมเลกุลระหว่างการเปลี่ยนตัวผู้เล่น
กลุ่มและหน่วยโมโนเมอร์ของไคโตซานซึ่งนำไปสู่
​​การลดลงในกลุ่มที่ใช้งานฟรีเช่น OH และ NH2 ใน
ไคโตซาน ที่ทำให้เกิดการลดลงในการกำจัดเปอร์เซ็นต์ของ
โลหะไอออน ในขณะที่ไคโตซานฟรีที่ฟรีถึงโดย
กลุ่มที่ใช้งานอยู่หยุดการดูดซับสูงกว่าของ
สัญญาซื้อขายล่วงหน้า

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

และการกำจัด ( H ) ของไอออนโลหะในกลุ่มงาน
เช่นโอ้และ nh2 ขึ้นอยู่กับโครงสร้างโมเลกุลของ
ดูดซับสารประกอบซึ่งผูกกับโลหะไอออน โดยพันธบัตรประสานงาน

เสนอการดูดซับของโลหะทรานซิชันโดย
และอนุพันธ์ไคโตซานมีแสดงในรูปที่ 8 ในผลของเรา
, เราพบว่าประสิทธิภาพในการกำจัด
โลหะต่าง ๆประจุบนพื้นผิวของสารประกอบ ( 1 ) และ ( 2 ) ต่ำกว่า
ไคโตซานนั่นเอง ที่สามารถนำมาประกอบกับการเกิดพันธะไฮโดรเจนระหว่างโมเลกุลภายใน

ใช้กลุ่มและหน่วยโมโนเมอร์ของไคโตซาน ซึ่งนำไปสู่
ลดลงฟรีปราดเปรียวกลุ่มต่างๆ เช่น โอ้ และ nh2 บน
ไคโตซาน ที่ทำให้เกิดการลดลงในประสิทธิภาพในการกำจัด
ไอออนโลหะในขณะที่ไคโตแซนฟรีที่เข้าถึงโดยกลุ่มงานฟรี
, ส่วนการดูดซับที่สูงกว่า
สัญญาซื้อขายล่วงหน้า