Magnetron sputtering is somewhat di

Magnetron sputtering is somewhat different from general sputtering technology. The difference is that magnetron sputtering technology uses magnetic fields to keep the plasma in front of the target, intensifying the bombardment of ions. A highly dense plasma is the result of this PVD coating technology

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

Magnetron พ่นจะค่อนข้างแตกต่างจากเทคโนโลยีสปัตเตอร์ทั่วไป ข้อแตกต่างคือ magnetron นั้นพ่นเทคโนโลยีใช้สนามแม่เหล็กให้พลาสม่าหน้าเป้าหมาย ระดมยิงของประจุที่ทวีความรุนแรง พลาสม่าหนาแน่นสูงเป็นผลมาจากเทคโนโลยีนี้เคลือบ PVD

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

สปัตเตอร์ Magnetron จะค่อนข้างแตกต่างจากเทคโนโลยีสปัตเตอร์ทั่วไป ความแตกต่างคือเทคโนโลยีสปัตเตอร์แมกใช้สนามแม่เหล็กที่จะให้พลาสม่าในด้านหน้าของเป้าหมายที่ทวีความรุนแรงก​​ารโจมตีของไอออน พลาสม่าที่มีความหนาแน่นสูงเป็นผลมาจากเทคโนโลยีการเคลือบ PVD ​​นี้

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

แมกนีตรอนสปัตเตอริงจะค่อนข้างแตกต่างจากเทคโนโลยีการสปัตเตอร์ทั่วไป ความแตกต่างก็คือ แมกนีตรอนสปัตเตอริง เทคโนโลยีการใช้สนามแม่เหล็กเก็บพลาสมาในด้านหน้าของเป้าหมายที่จะโจมตีของไอออน พลาสมาสูงหนาแน่น ผลนี้ PVD เคลือบเทคโนโลยี