N2 adsorption/desorption analysis c

N2 adsorption/desorption analysis confirmed the above picture (see Supporting information): An increase in H2O/SiO2 ratio with a simultaneous decrease in Si/Al ratio shifted the pore size distribution maximum from the 5–10 nm range for the Zol1–3 samples to 40–50 nm for Zol6–7 and even out of the measurement range (≥300 nm) for the applied analysis method for Zol11–Zol12.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

วิเคราะห์การดูดซับ/คายออก N2 ยืนยันในภาพข้างบน (ดูข้อมูลสนับสนุน): การเพิ่มขึ้นของอัตราส่วน H2O/SiO2 ด้วยลดลงพร้อมกันในอัตราส่วนของ Si/Al เปลี่ยนขนาดรูขุมขนกระจายสูงสุดจากช่วง 5-10 nm สำหรับตัวอย่าง Zol1 – 3 ถึง 40-50 นาโนเมตร สำหรับ Zol6 – 7 และแม้ในช่วงการวัด (≥300 nm) วิธีวิเคราะห์ที่ใช้สำหรับ Zol11 – Zol12

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

N2 วิเคราะห์การดูดซับ / คายยืนยันภาพข้างบน (ดูข้อมูลประกอบการ): เพิ่มขึ้นในอัตราส่วน H2O / SiO2 กับการลดลงพร้อมกันในอัตราส่วน Si / Al ขยับสูงสุดรูขุมขนกระจายขนาดจากช่วง 5-10 นาโนเมตรสำหรับตัวอย่าง Zol1-3 40-50 นาโนเมตรสำหรับ Zol6-7 และแม้กระทั่งออกจากช่วงการวัด (≥300นาโนเมตร) สำหรับวิธีการวิเคราะห์นำมาใช้สำหรับ Zol11-Zol12

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

การวิเคราะห์การดูดซับและปลดปล่อย N2 ยืนยันว่าภาพข้างบน ( ดูข้อมูลประกอบ ) : เพิ่มขึ้นใน H2O / SiO2 อัตราส่วนกับการลดลงในอัตราส่วน Si / Al พร้อมกันเปลี่ยนขนาดรูพรุนกระจายสูงสุดจาก 5 – 10 nm ช่วงสำหรับ zol1 – 3 ตัวอย่าง 40 – 50 nm สำหรับ zol6 – 7 และยังออกของ ช่วงการวัด ( ≥ 300 nm ) สำหรับการประยุกต์การวิเคราะห์วิธีการ zol11 – zol12 .