2.3. Pretreatment of substrate2.3.1

2.3. Pretreatment of substrate
2.3.1. Chemical treatment of substrate
The selected substrate (50 g) were soaked in different concentration
of 2.5%KOH, 2%H2SO4, or 3%H2O2 solution at the
ratio of 1:10 (solid: liquid) for 2 h at room temperature as
described previously (Irfan et al., 2011). After that the samples
were heated at 127
C for 60 min at 20 lb psi. Then samples
were filtered and solid residues were washed up to neutrality

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

2.3 การ pretreatment ของพื้นผิว2.3.1 เคมีบำบัดของพื้นผิวพื้นผิวที่เลือก (50 กรัม) ถูกนำไปแช่ในความเข้มข้นแตกต่างกันของ 2.5%KOH โซลูชัน H2O2 กำมะถัน 2% หรือ 3% ในการอัตราส่วน 1:10 (ทึบ: สภาพคล่อง) สำหรับ h 2 ที่อุณหภูมิห้องเป็นอธิบายไว้ก่อนหน้านี้ (Irfan et al., 2011) หลังจากนั้นตัวอย่างมีความร้อนที่ C 127 ใน 60 นาทีที่ 20 ปอนด์ psi ตัวอย่างแล้วถูกกรอง และตกเป็นของแข็งถูกล้างค่าเพื่อความเป็นกลาง

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

2.3 การปรับสภาพของพื้นผิว
2.3.1 การรักษาทางเคมีของพื้นผิว
พื้นผิวที่เลือก (50 กรัม) ได้รับการแช่ในความเข้มข้นที่แตกต่างกัน
2.5% KOH, H2SO4 2% หรือ 3% การแก้ปัญหา H2O2 ที่
อัตราส่วน 01:10 (ของแข็งของเหลว) เป็นเวลา 2 ชั่วโมงที่อุณหภูมิห้องเป็น
อธิบาย ก่อนหน้านี้ (ฟาน et al., 2011) หลังจากนั้นกลุ่มตัวอย่าง
ถูกความร้อนที่ 127 องศาเซลเซียสเป็นเวลา 60 นาทีที่£ 20 ปอนด์ต่อตารางนิ้ว จากนั้นกลุ่มตัวอย่าง
ถูกกรองและสารตกค้างที่เป็นของแข็งถูกล้างได้ถึงความเป็นกลาง

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

2.3 การตั้งต้น
2.3.1 . การรักษาทางเคมีของพื้นผิว
พื้นผิวที่เลือก ( 50 กรัม ) ชุ่ม
ความเข้มข้นแตกต่างกันของ 2.5% เกาะ 2 % กรดซัลฟิวริก หรือ 3% แบตเตอรี่โซลูชั่นที่
อัตราส่วน 1 : 10 ( ของแข็งของเหลว ) เป็นเวลา 2 ชั่วโมงที่อุณหภูมิห้อง เช่น
อธิบายไว้ก่อนหน้านี้ ( อีร์ฟาน et al . , 2011 ) หลังจากที่ตัวอย่าง
ได้รับอุณหภูมิ 127
C นาน 60 นาทีที่ 20 ปอนด์ PSI .
แล้วตัวอย่างถูกกรองและกากของแข็งถูกซักถึงความเป็นกลาง