High-quality polished 1 mm thick bo

High-quality polished 1 mm thick borosilicate glass substrates,
coated with 150 nm ITO of about 20O/sq surface resistance, have
been used for OLED fabrication. The ITO has been partially removed
by a lithographic process using UV curable resins and a mask aligner
in a class-10 clean room. Before coating the samples with PEDOTPSS, an ultrasonic cleaning with organic solvents (acetone, isopropanol and ethyl alcohol) and de-mineralized water has been
performed on each substrate

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ขัดเงาพื้นผิวแก้ว borosilicate หนา 1 มม. คุณภาพสูงเคลือบ ด้วย 150 nm ITO ของเกี่ยวกับความต้านทานผิว 20O/ห้อง มีการใช้สำหรับผลิต OLED ITO บางส่วนออกไปโดยใช้เรซิ่นรักษา UV และ aligner รูปแบบกระบวนการสีบนแผ่นเหล็กในคลาส-10 ห้องพัก ก่อนที่จะเคลือบตัวอย่างกับ PEDOTPSS การทำความสะอาดอัลตราโซนิกกับอินทรีย์ (อะซิโตน isopropanol และเอทิลแอลกอฮอล์) และน้ำ de-mineralized ได้ดำเนินการในแต่ละพื้นผิว

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ที่มีคุณภาพสูงขัดหนา 1 มิลลิเมตรพื้นผิวแก้ว borosilicate,
เคลือบด้วย 150 นาโนเมตร ITO ประมาณ 20O / ความต้านทานพื้นผิวตารางได้
ถูกนำมาใช้สำหรับการผลิต OLED ITO ได้ถูกลบออกบางส่วน
โดยกระบวนการพิมพ์หินโดยใช้เรซินรักษา UV และตั้งศูนย์หน้ากาก
ในห้องพักสะอาดชั้น 10 ก่อนที่จะเคลือบตัวอย่างกับ PEDOTPSS, ทำความสะอาดอัลตราโซนิกที่มีตัวทำละลายอินทรีย์ (อะซิโตน isopropanol และเอธิลแอลกอฮอล์) และน้ำปราศจากแร่ธาตุที่ได้รับการ
ดำเนินการในแต่ละพื้นผิว

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ที่มีคุณภาพสูงขัดขนาด 1 มม. หนา borosilicate แก้วพื้นผิว
เคลือบ 150 nm นี้ประมาณ 20 % / sq ความต้านทานผิว มี
ใช้ OLED ผลิต อิโตะถูกเอาออกบางส่วน
โดยกระบวนการลิโธกราฟฟิคใช้ UV curable เรซินและหน้ากาก อยู่ที่
ใน class-10 ทำความสะอาดห้อง ก่อนการเคลือบตัวอย่างด้วย pedotpss , ทำความสะอาดอัลตราโซนิกที่มีตัวทำละลายอินทรีย์ ( อะซิโตนและไอโซโพรพานอลเอธิลแอลกอฮอล์ ) และ เดอ mineralized มีน้ำ
แสดงในแต่ละพื้นผิว