particles were analyzed for sputter

particles were analyzed for sputtering Ge with Ar and Xe ions under systematic variation of the ion beam and

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

มีวิเคราะห์อนุภาคสำหรับพ่น Ge กับ Ar และ Xe ประจุภายใต้การเปลี่ยนแปลงระบบของคานไอออน และ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

อนุภาคที่ถูกนำมาวิเคราะห์สำหรับสปัตเตอร์ไอออน Ge กับ Ar และ Xe ภายใต้การเปลี่ยนแปลงของระบบลำแสงไอออนและ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

อนุภาควิเคราะห์สเกอกับ AR และ กลุ่มอิออนภายใต้รูปแบบระบบของลำแสงไอออนและ