This, in turn, leads to increased i

This, in turn, leads to increased ion bombardment of the target, giving higher sputtering rates and, therefore, higher deposition rates at the substrate

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

นี้ กลับ นำไปสู่การระดมยิงไอออนเพิ่มขึ้นของเป้าหมาย ให้ราคาสูงที่พ่น และ จึง สะสมสูงกว่าราคาที่พื้นผิว

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

นี้ในที่สุดก็นำไปสู่​​การเพิ่มขึ้นไอออนโจมตีของเป้าหมายให้อัตราสปัตเตอร์ที่สูงขึ้นและมีอัตราที่สูงขึ้นในการสะสมสารตั้งต้น

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

นี้ , ในการเปิด , นำไปสู่การเพิ่มขึ้นของไอออนโจมตีเป้าหมายให้สูงกว่าอัตราการสปัตเตอริง และ ดังนั้น อัตราที่สูงของพื้นผิว