and ψ6,ave is in the range of 0 to

and ψ6,ave is in the range of 0 to 1, spanning no local hexagonal
symmetry between particle neighbors to a long-range hexagonally
close-packed crystal. For the fixedR)45°, Figure 7a shows that
Favg slowly decreases with increasing deposition speed and drops
significantly for speeds above Vmono ) 45 μm/s. With regard to
the local order, ψ6,ave is highest at a speed of Vmono ) 30 μm/s,
the optimal deposition speed for a thin film monolayer. Samples
generated below Vmono show only a slight degree of disorder, but
they are the analysis of the first layer of a multilayer deposition.
Samples fabricated above 30 μm/s demonstrate a significant
reduction in ψ6,ave, although the density does not significantly
decrease until the deposition rate is above 45 μm/s. This indicates
that the local order is highly sensitive to changes in the density
and the number of defects grows substantially at deposition lower
than Vmono. When the sample is clearly a submonolayer, above
45 μm/s, the particles are distributed randomly, similar to the left
image in Figure 6a.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

และ ψ6, ave อยู่ในช่วง 0 ถึง 1 รัฐท้องถิ่นไม่หกเหลี่ยมสมมาตรระหว่างอนุภาคเพื่อนบ้านจะเป็นพิสัยกระท่อมคริสตัลที่บรรจุปิด สำหรับ fixedR) 45 องศา รูปที่ 7a แสดงที่Favg ลดลง ด้วยการเพิ่มความเร็วในการสะสม และหยดช้า ๆอย่างมีนัยสำคัญสำหรับความเร็วข้างต้น Vmono) 45 μm/s ด้วยประสงค์โดยการสั่งท้องถิ่น ψ6, ave จะสูงสุดที่ความเร็วของ Vmono) μm 30/sความเร็วสะสมที่ดีที่สุดสำหรับ monolayer ฟิล์มบาง ตัวอย่างสร้างด้านล่างดู Vmono เพียงเล็กน้อยระดับของโรค แต่จะวิเคราะห์ของชั้นแรกของสะสมหลายชั้นหลังสร้างเหนือ 30 μm/s ของตัวอย่างที่แสดงให้เห็นถึงความสำคัญลด ψ6, ave แม้ว่าความหนาแน่นไม่มากไม่ลดลงจนกระทั่งอัตราสะสมเหนือ 45 μm s บ่งชี้ว่าใบสั่งเฉพาะที่สูงความไวต่อการเปลี่ยนแปลงความหนาแน่นจำนวนข้อบกพร่องที่เกิดมากที่สะสมลดลงกว่า Vmono เมื่อตัวอย่างเป็นอย่างการ submonolayer ข้างต้นΜm 45/s อนุภาคจะกระจายแบบสุ่ม คล้ายไปทางซ้ายภาพในรูปที่ 6a

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

และψ6, Ave อยู่ในช่วง 0-1
ทอดไม่มีหกเหลี่ยมท้องถิ่นสมมาตรระหว่างเพื่อนบ้านอนุภาคระยะยาวhexagonally
คริสตัลใกล้บรรจุ สำหรับ fixedR) 45 °, 7a รูปที่แสดงให้เห็นว่า
Favg
ลดลงอย่างช้าๆด้วยความเร็วการสะสมเพิ่มขึ้นและลดลงอย่างมีนัยสำคัญสำหรับความเร็วเหนือVmono) 45 ไมครอน / s ในเรื่องเกี่ยวกับการสั่งซื้อในท้องถิ่นψ6, Ave สูงสุดที่ความเร็วของ Vmono) 30 ไมครอน / วินาทีซึ่งเป็นความเร็วในการให้การของพยานที่ดีที่สุดสำหรับmonolayer ฟิล์มบาง ตัวอย่างที่เกิดขึ้นดังต่อไปนี้ Vmono แสดงเฉพาะในระดับเล็กน้อยของความผิดปกติ แต่พวกเขามีการวิเคราะห์ชั้นแรกของพยานหลายได้. ตัวอย่างประดิษฐ์กว่า 30 ไมครอน / วินาทีแสดงให้เห็นอย่างมีนัยสำคัญในการลดψ6, Ave แม้ว่าความหนาแน่นไม่ได้อย่างมีนัยสำคัญลดลงจนอัตราการสะสมอยู่เหนือ 45 ไมครอน / s นี้แสดงให้เห็นว่าคำสั่งในท้องถิ่นเป็นอย่างสูงที่ไวต่อการเปลี่ยนแปลงในความหนาแน่นและจำนวนข้อบกพร่องที่เติบโตขึ้นอย่างมีนัยสำคัญในการสะสมต่ำกว่าVmono เมื่อกลุ่มตัวอย่างเห็นได้ชัด submonolayer ที่ดังกล่าวข้างต้น45 ไมครอน / s อนุภาคที่มีการกระจายการสุ่มคล้ายไปทางซ้ายของภาพในรูปที่6a