เทคนิค Plasma Enhanced Atomic Layer

เทคนิค Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition (PE – ALD) เป็นกระบวนการสร้างฟิล์มโดยใช้พลาสมาเป็นตัวช่วยในการเร่งปฏิกิริยา โดยใช้สารตั้งต้นTrimethylaluminum (TMA) ที่เป็นของเหลว ถูกผ่านกระบวนการทำให้เป็นก๊าซโดยใช้แก๊สอาร์กอนเป็นตัวช่วย และพลาสมาของออกซิเจนปฏิกิริยากับTMA จะได้เป็นฟิล์มอลูมินา

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

พลาสม่าเทคนิคเพิ่มสะสมชั้นอะตอม (PE – ALD) เป็นกระบวนการสร้างฟิล์มโดยใช้พลาสมาเป็นตัวช่วยในการเร่งปฏิกิริยา โดยใช้สารตั้งต้นTrimethylaluminum (TMA) ที่เป็นของเหลวถูกผ่านกระบวนการทำให้เป็นก๊าซโดยใช้แก๊สอาร์กอนเป็นตัวช่วย และพลาสมาของออกซิเจนปฏิกิริยากับTMA จะได้เป็นฟิล์มอลูมินา

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

เทคนิคพลาสม่าที่เพิ่มขึ้นสะสมปรมาณู Layer (PE - มรกต) โดยใช้สารตั้งต้น Trimethylaluminum (TMA) ที่เป็นของเหลว และพลาสมาของออกซิเจนปฏิกิริยากับ TMA จะได้เป็นฟิล์มอลูมินา

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

เทคนิคพลาสมาเพิ่มสะสมชั้นอะตอม ( PE ) ald ) เป็นกระบวนการสร้างฟิล์มโดยใช้พลาสมาเป็นตัวช่วยในการเร่งปฏิกิริยาโดยใช้สารตั้งต้น trimethylaluminum ( TMA ) ที่เป็นของเหลวถูกผ่านกระบวนการทำให้เป็นก๊าซโดยใช้แก๊สอาร์กอนเป็นตัวช่วยจะได้เป็นฟิล์มอลูมินา