Nevertheless, if the UV-lithography

Nevertheless, if the UV-lithography time increased to 3 h, equivalent to UV dose of 22.4 J cm-2, the surface roughness at the channel bottom increased to a RMS of 9 nm (Fig. 3b)

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

แต่ ถ้าเวลาทำลวดลายวงจร UV เพิ่มไป 3 ชม. เทียบเท่ากับปริมาณรังสี UV ซม. J 22.4-2 พื้นผิวขรุขระที่ด้านล่างของช่องสัญญาณเพิ่มขึ้นเป็น RMS 9 นาโนเมตร (รูปที่ 3b)

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

แต่ถ้าเวลา UV-พิมพ์หินเพิ่มขึ้นถึง 3 ชั่วโมงเทียบเท่ากับปริมาณรังสียูวี 22.4 ซม. J-2, พื้นผิวที่ขรุขระที่ด้านล่างเป็นช่องทางเพิ่มขึ้นใน RMS 9 นาโนเมตร (รูป. 3b)

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

แต่ถ้า UV ภายในเวลาเพิ่มเป็น 3 ชั่วโมง เทียบเท่ากับ UV ขนาด 22.4 J cm-2 , ความขรุขระพื้นผิวที่ด้านล่างของช่องเพิ่มขึ้นในค่าของ 9 nm ( รูปที่ 3B )