The first attempts to increase the

The first attempts to increase the mechanical performance of the AA
7075-T6 anodic films (i.e. a homogenous growth and a good interfacial
adhesion of the oxide) were performed by optimizing some multistep
direct current procedures (MSDC), realized combining two different
levels of current density.
The selection of a first galvanostatic step at low current density
(compared to the single level of 24 mA/cm2 used in the DC procedures
previously reported) was performed with the intention to avoid the
creation of strong electric field concentrated on the intermetallics
during the first instants of oxide growth.
The four procedures adopted are summarized in Table 1, while in
Table 3 the characterization results are reported. The introduction of
MSDC anodizing procedure allows to obtain high quality and well
adherent coatings: the most performing treatment was obtained
combining a first step at 18 mA/cm2
, maximum 20 minute long
(ramps MSDC_3 and MSDC_4), followed by a second step at
24 mA/cm2
. The effectiveness of the MSDC procedure can be ascribed
to the formation of a first non-defected layer during the first ‘low
current’ step; during the subsequent‘high current’ step the oxide growth
proceeds on both the interfacial fronts of the thin non-defected layer
previously formed, avoiding an excessive concentration of the electric
field on the intermetallic compounds when the higher currents start
flowing.
The extension of the ‘low current’ step over 20 min brings to the formation
of an initial layer of high thickness, compromising the mean
hardness of the final oxide obtained, as shown in Table 3 for MSDC_2 experiment
(the reason is that the initial layer, grown a low current, is not
very hard). This effect is emphasized when a very low current level for
the initial step is selected (i.e. 15 mA/cm2
), as shown in Table 3 for
MSDC_1 experiment.
The absence of interfaces along the oxide cross sections, that could
have been caused by the current increase (current jump or current
ramp), indicates a perfect uniformity of the oxides obtained by the optimized
MSDC procedure (as shown in Fig. 3c) and thus a low risk of
coating delamination during use. Anyway the MSDC technique doesn't
allow to obtain significant improvements in terms of hardness (compared
with DC procedures) and when the higher hardness values are
reached (310 HV obtained with MSDC_3 experiment) it's not possible
to eliminate all the oxide defects (Fig. 3c).
3.2. Pulsed current anodizing
The different pulsed current procedures performed changing ion,
ioff and duty cycles1 are described in Table 2. The application of a
slightly anodic current during the time-off phase (ioff = 6 mA/cm2
),
selection based on literature data [17–20], ensures some breaks
during the growth phase without allowing the development of
undesired parasitic reactions (activated, for example, by cathodic
polarization). The current values (ion) applied during the working
phase (time-on) have been chosen considering the previous DC and
MSDC tests: 24 mA/cm2 represents the current level employed in
the preliminary analysis while 36 mA/cm2 intends to be an extreme
attempt to optimize the oxide mechanical properties, assuming that
higher currents, applied in slow square pulse mode, would provide a
discrete heat dissipation and a temporally limited concentration of
the electric field on intermetallics.
The characterizations of the oxides obtained with pulse anodizing,
summarized in Table 4, were compared with the best results achieved
in DC (by simple or multistep procedures).
The more significant improvement obtained with the pulse
anodizing technique concern the nano-hardness values measured
along the oxide cross sections: their average values are abundantly
above the hardness obtained with DC and MSDC cycles as their
profiles, shown in Fig. 4, testify.
The nano-hardness profile of the sample anodized in DC setting
−2 °C as bath temperature (DC_2) displays an interesting increasing
trend toward the oxide/electrolyte interface which demonstrates a
poor compactness of the oxide near the metal/oxide interface (due to
the presence of microcracks, see Fig. 3b) and an extremely hard oxide
near the oxide/electrolyte interface, thanks to a less aggressive acid
action at −2 °C. The PC profiles, at least in the first 50 μm, are instead
much more linear confirming the surprising homogeneity of these
oxides and proving the efficiency of the procedures tested in terms of
performance advantages.
Similarly improvements in volumetric expansion ratio and L*
parameter data were found: pulsed current anodized oxides in fact
turn out to be more compact (Vox / Vmet ~ 1.7) and very dark
(L* ~ 34) when compared with DC and MSDC coatings. In addition
pulsed current cycles, although are characterized by several slow

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

พยายามเพิ่มประสิทธิภาพการทำงานของเครื่องจักรกลของ AA แรกฟิล์ม anodic 7075 T6 (เช่นการให้เจริญเติบโตและ interfacial ดียึดเกาะของออกไซด์) ได้ดำเนินการ โดยเพิ่มประสิทธิภาพ multistep บางกระแสตรงขั้นตอน (MSDC), รับรู้รวมทั้งสองแตกต่างกันระดับของความหนาแน่นของกระแสการเลือกขั้นตอน galvanostatic แรกที่ความหนาแน่นต่ำของปัจจุบัน(เมื่อเทียบกับระดับเดียวของ mA/cm2 24 ที่ใช้ในกระบวนการ DCรายงานก่อนหน้านี้) ทำ ด้วยความตั้งใจที่จะหลีกเลี่ยงการสร้างสนามไฟฟ้าแรงเข้มข้นในการ intermetallicsในช่วงแรกการบะหมี่กึ่งสำเร็จรูปโตออกไซด์ขั้นตอน 4 นำได้สรุปไว้ในตารางที่ 1 ใน3 ตารางที่มีรายงานผลการจำแนก แนะนำMSDC กระบวนการ anodizing-ช่วยให้ได้รับคุณภาพสูง และดีนฤมลเคลือบ: ได้รับการรักษามากที่สุดประสิทธิภาพรวมเป็นขั้นตอนที่ 18 mA/cm2ยาว 20 สูงสุดนาที(ทางลาด MSDC_3 และ MSDC_4), ตาม ด้วยขั้นตอนที่สองที่24 mA cm2. สามารถ ascribed ประสิทธิภาพของกระบวนการ MSDCจะก่อชั้นแรกไม่ใช่ defected ช่วงแรก ' ต่ำปัจจุบัน ' ขั้นตอน ในระหว่างการ subsequent'high ปัจจุบัน ' ขั้นตอนการเจริญเติบโตของออกไซด์ดำเนินการในทั้งสองแผน interfacial ของชั้นไม่ใช่ defected บางก่อนหน้านี้ เกิดขึ้น หลีกเลี่ยงการเข้มข้นมากเกินไปของการไฟฟ้าในสารประกอบ intermetallic เมื่อเริ่มกระแสสูงไหลส่วนขยายของ 'ต่ำปัจจุบัน' ขั้นกว่า 20 นาทีนำจะก่อห้องของชั้นที่เริ่มต้นของความหนาสูง ค่าเฉลี่ยความแข็งของออกไซด์ขั้นสุดท้ายที่ได้รับ ดังแสดงในตารางที่ 3 ในการทดลอง MSDC_2(เหตุผลคือว่า ชั้นเริ่มต้น เติบโตขึ้นเป็นปัจจุบัน ไม่ยากมาก) ลักษณะพิเศษนี้จะถูกเน้นเมื่อระดับปัจจุบันต่ำมากสำหรับเลือกขั้นตอนแรก (เช่น 15 mA/cm2), ดังที่แสดงในตารางที่ 3 สำหรับMSDC_1 ทดลองการขาดงานของอินเทอร์เฟซตามเป็นข้ามส่วน ที่สามารถเกิดจากกระแสการเพิ่ม (ข้ามปัจจุบันหรือปัจจุบันลาด), ใจสมบูรณ์แบบของออกไซด์ที่ได้รับ โดยการเพิ่มประสิทธิภาพการบ่งชี้กระบวนการ MSDC (ตามที่แสดงใน Fig. 3c) จึงมีความเสี่ยงต่ำdelamination เคลือบในระหว่างการใช้ อย่างไรก็ตาม เทคนิค MSDC ไม่อนุญาตให้ได้รับการปรับปรุงที่สำคัญในด้านความแข็ง (เปรียบเทียบมีขั้นตอนการ DC) และเมื่อค่าความแข็งสูงถึง (HV 310 ที่ได้ ด้วยการทดลอง MSDC_3) เป็นไปไม่ได้เพื่อขจัดออกไซด์ทุกข้อบกพร่องกิน 3c)3.2 การ anodizing-ปัจจุบันสูงตอนปัจจุบันพัลต่าง ๆ ดำเนินการเปลี่ยนไอออนcycles1 ioff และภาษีไว้ในตารางที่ 2 การประยุกต์การปัจจุบัน anodic เล็กน้อยในช่วงระยะเวลาปิด (ioff = mA 6 cm2),พักใจเลือกตามข้อมูลเอกสารประกอบการ [17-20],ระยะเจริญเติบโตโดยให้การพัฒนาไม่เสียงฟู่เหมือนกาฝากปฏิกิริยา (เรียก เช่น โดย cathodicโพลาไรซ์) ค่าปัจจุบัน (ไอออน) ใช้ในการทำงานระยะ (ครั้งที่) การเลือกพิจารณา DC ก่อนหน้า และทดสอบ MSDC: mA 24 cm2 แสดงถึงระดับการจ้างงานในปัจจุบันการวิเคราะห์เบื้องต้นในขณะที่ม้า 36 cm2 ต้อง การมากพยายามปรับการออกไซด์คุณสมบัติทางกล สมมติว่าที่จะให้กระแสสูง ใช้ในโหมดตารางชีพจรช้า การกระจายความร้อนไม่ต่อเนื่องและเข้มข้น temporally จำกัดของสนามไฟฟ้าบน intermetallicsCharacterizations ของออกไซด์ได้ ด้วยชีพจร anodizing-สรุปไว้ในตาราง 4 ถูกเปรียบเทียบกับผลดีที่สุดได้ใน DC (โดยขั้นตอนง่าย ๆ หรือ multistep)ปรับปรุงยิ่งได้ ด้วยชีพจรวัดค่าความแข็งนาโน anodizing-เทคนิคที่เกี่ยวข้องตามเป็นข้ามส่วน: ค่าเฉลี่ยอุดมสมบูรณ์ข้างต้นความแข็งได้ ด้วยวงจร DC และ MSDC เป็นของพวกเขาโพรไฟล์ Fig. 4 แสดงเป็นพยานโพรไฟล์ความแข็งนาโนของอย่างเครื่องใน DC−2 ° C เป็นอุณหภูมิน้ำ (DC_2) แสดงขึ้นที่น่าสนใจโน้มของอินเทอร์เฟซออกไซด์/อิเล็กโทรซึ่งแสดงให้เห็นถึงการcompactness ดีของออกไซด์ใกล้อินเทอร์เฟสโลหะ/ออกไซด์ (ครบกำหนดไปของ microcracks ดู Fig. 3b) และออกไซด์ยากมากใกล้กับอินเตอร์เฟซออกไซด์/อิเล็กโทร ขอบคุณกรดน้อยก้าวร้าว−2 องศาเซลเซียส ค่า PC น้อย μm ก่อน 50 มีแทนเชิงเส้นมากยืนยัน homogeneity น่าแปลกใจเหล่านี้ออกไซด์และพิสูจน์ประสิทธิภาพของขั้นตอนการทดสอบในรูปของข้อดีของประสิทธิภาพการทำงานในทำนองเดียวกันการปรับปรุงในอัตราส่วนขยาย volumetric และ L *พบข้อมูลพารามิเตอร์: ปัจจุบันพัลเครื่องออกไซด์ในความเป็นจริงเป็นกระชับ (Vox / Vmet ~ 1.7) และมืดมาก(L * ~ 34) เมื่อเปรียบเทียบกับ DC และ MSDC เคลือบ นอกจากนี้สูงรอบปัจจุบัน ถึงแม้ว่ามีลักษณะหลายช้า

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ความพยายามครั้งแรกที่จะเพิ่มประสิทธิภาพการทำงานของเครื่องจักรกลของ AA
ภาพยนตร์ anodic 7075-T6 (เช่นการเจริญเติบโตเป็นเนื้อเดียวกันและสัมผัสที่ดี
การยึดเกาะของออกไซด์) ได้ดำเนินการโดยการเพิ่มประสิทธิภาพบางหลายขั้นตอน
ขั้นตอนกระแสตรง (MSDC) ตระหนักถึงการรวมสองที่แตกต่างกัน
ในระดับปัจจุบัน ความหนาแน่น.
การเลือกขั้นตอน galvanostatic เป็นครั้งแรกที่ความหนาแน่นกระแสไฟฟ้าต่ำ
(เมื่อเทียบกับระดับเดียวของ 24 mA / cm2 ใช้ในขั้นตอนการดีซี
รายงานก่อนหน้านี้) ได้ดำเนินการกับความตั้งใจที่จะหลีกเลี่ยง
การสร้างสนามไฟฟ้าที่แข็งแกร่งจดจ่ออยู่กับ intermetallics
ระหว่าง จังหวะแรกของการเจริญเติบโตของออกไซด์.
สี่ขั้นตอนลูกบุญธรรมได้สรุปไว้ในตารางที่ 1 ในขณะที่ใน
ตารางที่ 3 ผลการตัวละครจะมีการรายงาน แนะนำของ
ขั้นตอน MSDC อโนไดซ์ที่จะได้รับอนุญาตให้มีคุณภาพสูงและมี
การเคลือบสานุศิษย์: การรักษาที่มีประสิทธิภาพมากที่สุดที่ได้รับ
การรวมขั้นตอนแรกที่ 18 mA / cm2
สูงสุด 20 นาทีที่ยาวนาน
(ลาด MSDC_3 และ MSDC_4) ตามด้วยขั้นตอนที่สองที่
24
mA / cm2 ประสิทธิภาพของขั้นตอน MSDC สามารถกำหนด
ให้กับการก่อตัวของชั้นที่ไม่ Defected ครั้งแรกในช่วงแรกต่ำ
ในปัจจุบันขั้นตอน; ในช่วง subsequent'high ปัจจุบันขั้นตอนการเจริญเติบโตออกไซด์
เงินทั้งในด้านสัมผัสของชั้นที่ไม่เสียบาง
ที่เกิดขึ้นก่อนหน้านี้หลีกเลี่ยงความเข้มข้นที่มากเกินไปของไฟฟ้า
ในภาคสนามสารประกอบ intermetallic เมื่อกระแสน้ำที่สูงขึ้นเริ่ม
ไหล.
ส่วนขยายของ 'ต่ำในปัจจุบันขั้นตอนกว่า 20 นาทีนำมาสู่การก่อตัว
ของชั้นเริ่มต้นของความหนาสูงประนีประนอมหมายถึง
ความแข็งของออกไซด์สุดท้ายที่ได้รับดังแสดงในตารางที่ 3 สำหรับการทดสอบ MSDC_2
(เหตุผลก็คือว่าชั้นเริ่มต้นการเติบโตต่ำ ปัจจุบันไม่ได้
ยากมาก) ผลกระทบนี้จะเน้นเมื่อระดับปัจจุบันที่ต่ำมากสำหรับ
ขั้นตอนแรกจะถูกเลือก (เช่น 15 mA / cm2
) ดังแสดงในตารางที่ 3 สำหรับ
การทดลอง MSDC_1.
กรณีที่ไม่มีการเชื่อมต่อพร้อมส่วนข้ามออกไซด์ที่อาจ
มีสาเหตุมาจาก เพิ่มขึ้นในปัจจุบัน (กระโดดในปัจจุบันหรือในปัจจุบัน
ทางลาด) แสดงให้เห็นสม่ำเสมอที่สมบูรณ์แบบของออกไซด์ที่ได้จากการเพิ่มประสิทธิภาพ
ขั้นตอน MSDC (ดังแสดงในรูป. 3c) และทำให้มีความเสี่ยงต่ำของ
delamination เคลือบระหว่างการใช้งาน อย่างไรก็ตามเทคนิค MSDC ไม่
อนุญาตให้มีการได้รับการปรับปรุงที่สำคัญในแง่ของความแข็ง (เมื่อเทียบ
กับขั้นตอนการ DC) และเมื่อค่าความแข็งสูงกว่าจะ
ถึง (310 HV รับกับการทดลอง MSDC_3) มันเป็นไปไม่ได้
ที่จะกำจัดทุกข้อบกพร่องออกไซด์ (รูปที่ 3c).
3.2 ชีพจรอโนไดซ์ในปัจจุบัน
วิธีการที่แตกต่างกันในปัจจุบันชีพจรดำเนินการเปลี่ยนแปลงไอออน
ioff หน้าที่ cycles1 อธิบายไว้ในตารางที่ 2 การประยุกต์ใช้
ในปัจจุบัน anodic เล็กน้อยในช่วงเวลาปิด (ioff = 6 mA / cm2
),
ตัวเลือกบนพื้นฐานของข้อมูลวรรณกรรม [ 17-20], ช่วยให้มั่นใจได้แบ่งบางส่วน
ในระหว่างขั้นตอนการเจริญเติบโตโดยไม่อนุญาตให้มีการพัฒนา
ปฏิกิริยาปรสิตที่ไม่พึงประสงค์ (เปิดใช้งานตัวอย่างเช่นโดย cathodic
โพลาไรซ์) ค่าปัจจุบัน (ไอออน) นำไปใช้ในระหว่างการทำงาน
ขั้นตอน (ในเวลา) ได้รับการคัดเลือกพิจารณาก่อนหน้านี้ซีและ
ทดสอบ MSDC: 24 mA / cm2 หมายถึงระดับปัจจุบันลูกจ้างในการ
วิเคราะห์เบื้องต้นในขณะที่ 36 mA / cm2 มุ่งมั่นที่จะเป็นมาก
พยายามที่จะเพิ่มประสิทธิภาพสมบัติเชิงกลออกไซด์สมมติว่า
กระแสที่สูงขึ้นนำไปประยุกต์ใช้ในโหมดการเต้นของชีพจรตารางช้าจะช่วยให้
การระบายความร้อนต่อเนื่องและเข้มข้น จำกัด ชั่วคราวของ
สนามไฟฟ้าบน intermetallics.
การตรวจสอบของออกไซด์ที่ได้รับกับอโนไดซ์ชีพจร
สรุปใน ตารางที่ 4 ถูกเมื่อเทียบกับผลลัพธ์ที่ดีที่สุดที่ประสบความสำเร็จ
ในซี (โดยวิธีการที่เรียบง่ายหรือหลายขั้นตอน).
การปรับปรุงที่สำคัญอื่น ๆ ที่ได้รับกับการเต้นของชีพจร
ความกังวลอโนไดซ์เทคนิคนาโนค่าความแข็งวัด
พร้อมส่วนข้ามออกไซด์: ค่าเฉลี่ยของพวกเขามีความอุดมสมบูรณ์
ดังกล่าวข้างต้น ความแข็งที่ได้รับกับดีซีและรอบ MSDC เป็นของ
โปรไฟล์ที่แสดงในรูป 4 เป็นพยาน.
นาโนแข็งรายละเอียดของตัวอย่าง anodized ในการตั้งค่า DC
-2 องศาเซลเซียสอุณหภูมิน้ำ (DC_2) แสดงที่น่าสนใจเพิ่มขึ้น
แนวโน้มออกไซด์ / อิเลคอินเตอร์เฟซที่แสดงให้เห็นถึง
ความเป็นปึกแผ่นที่น่าสงสารของออกไซด์ใกล้โลหะ / ออกไซด์ อินเตอร์เฟซ (เนื่องจากการ
ปรากฏตัวของ microcracks ดูรูป. 3b) และออกไซด์มากยากที่
ใกล้อินเตอร์เฟซออกไซด์ / อิเลคโทรขอบคุณกรดก้าวร้าวน้อย
การกระทำที่ -2 ° C โปรไฟล์เครื่องคอมพิวเตอร์อย่างน้อยในครั้งแรก 50 ไมครอนมีแทน
เชิงเส้นอื่น ๆ อีกมากมายที่ยืนยันความเป็นเนื้อเดียวกันน่าแปลกใจของเหล่านี้
ออกไซด์และพิสูจน์ประสิทธิภาพของขั้นตอนการทดสอบในแง่ของ
ข้อดีประสิทธิภาพ.
ปรับปรุงในทำนองเดียวกันในอัตราส่วนการขยายปริมาตรและ L *
ข้อมูลพารามิเตอร์ได้ ที่พบ: ชีพจรออกไซด์ anodized ปัจจุบันในความเป็นจริง
เปิดออกมาเป็นขนาดเล็กมาก (Vox / Vmet ~ 1.7) และมืดมาก
(L * ~ 34) เมื่อเทียบกับซีและสารเคลือบ MSDC นอกจากนี้
ชีพจรรอบปัจจุบันแม้ว่าจะมีลักษณะหลายช้า

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ความพยายามครั้งแรกที่จะเพิ่มประสิทธิภาพเชิงกลของ AA
7075-t6 การภาพยนตร์ ( เช่นการยึดเกาะระหว่าง homogenous และ
ที่ดีของออกไซด์ ) ได้โดยการเพิ่มประสิทธิภาพบาง multistep
กระแสตรงขั้น ( msdc ) ตระหนักรวมสองระดับที่แตกต่างกัน

ของความหนาแน่นกระแส การเลือกของก่อน galvanostatic ขั้นต่ำ ความหนาแน่นกระแส
( เมื่อเทียบกับระดับเดียว 24 มา / cm2 ใช้ใน DC ขั้นตอน
รายงานก่อนหน้านี้ ) คือการตั้งใจที่จะหลีกเลี่ยง
สร้างแรงสนามไฟฟ้าที่เข้มข้นในอินเตอร์เมทัลลิก
ในระหว่าง instants แรกของการเจริญเติบโตของออกไซด์ .
4 ขั้นตอนที่รับรองสรุปได้ในตารางที่ 1 ในขณะที่
โต๊ะ 3 ลักษณะผลรายงาน การแนะนำของ
msdc anodizing ขั้นตอนช่วยให้เพื่อให้ได้คุณภาพสูงและดี
ติดเคลือบ : มากที่สุดการรักษาได้
รวมขั้นตอนแรกที่ 18 มา / cm2

( สูงสุด 20 นาทีนานและทางลาด msdc_3 msdc_4 ) ตามด้วยขั้นตอนที่สองที่ 24 มา / cm2

ประสิทธิผลของกระบวนการ msdc สามารถใช้แทน
ไปจัดตั้งเป็นครั้งแรกไม่ทรยศชั้นช่วงแรก ' ต่ำ '
ปัจจุบันขั้นตอน ;ในระหว่างขั้นตอนการ subsequent'high ปัจจุบัน ' ออกไซด์การเจริญเติบโต
รายได้ทั้งในด้านหน้าของผิวหน้าไม่บางก็ชั้น
ก่อนหน้านี้เกิดขึ้น หลีกเลี่ยงการมากเกินไป ความเข้มข้นของไฟฟ้า
นามชนิดสารประกอบเมื่อกระแสน้ำเริ่มไหลขึ้น
.
) ' ต่ำ ' ก้าวข้ามปัจจุบัน 20 นาที ทำให้การก่อตัว
ของชั้นเริ่มต้นของความหนาสูงประนีประนอมหมายถึง
ความแข็งของขั้นสุดท้ายออกไซด์ได้ ดังแสดงในตารางที่ 3
ทดลอง msdc_2 ( เหตุผลคือ ชั้นเริ่มต้นปลูกต่ำปัจจุบัน ไม่ใช่
ยากมาก ) ผลกระทบนี้จะเน้นที่ระดับปัจจุบันที่ต่ำมากสำหรับ
ขั้นตอนแรกคือเลือก ( เช่น 15 MA / cm2
) ดังแสดงใน ตารางที่ 3 สำหรับการทดลอง msdc_1
.
ขาดการเชื่อมต่อตามไซด์ข้ามส่วนที่สามารถ
เกิดจากเพิ่มปัจจุบัน ( กระโดดในปัจจุบันหรือทางลาดปัจจุบัน
) บ่งชี้ว่า ความสมบูรณ์แบบของออกไซด์ที่ได้จากเหมาะ
msdc ขั้นตอน ( ดังแสดงในรูปที่ 3 ) และดังนั้นจึงมีความเสี่ยงต่ําของ
เคลือบโดยขณะใช้งาน อย่างไรก็ตาม msdc เทคนิคไม่ได้
อนุญาตที่จะได้รับการปรับปรุงที่สำคัญในแง่ของความแข็ง ( เทียบ
กับขั้นตอน DC ) และเมื่อค่าความแข็งที่สูง
ถึง ( 310 HV ได้ด้วยการทดลอง msdc_3 ) มันเป็นไปไม่ได้ที่จะขจัดข้อบกพร่องทั้งหมดออกไซด์
( รูปที่ 3 )
2 . พัล anodizing ปัจจุบัน
พัลปัจจุบันแตกต่างกันขั้นตอนการดําเนินการเปลี่ยนไอออน ,
ioff และหน้าที่ cycles1 อธิบายไว้ในตารางที่ 2 การประยุกต์ใช้
ปัจจุบันมีการในช่วงเวลาปิดเฟส ( ioff = 6 MA / cm2
)
เลือกตามวรรณคดีข้อมูล [ 17 – 20 ] ให้แบ่งบางส่วน
ในระหว่างขั้นตอนการเจริญเติบโตโดยไม่อนุญาตให้พัฒนา
ปฏิกิริยาไม่พึงประสงค์ปรสิต ( เปิดใช้งาน เช่น การโพลาไรซ์แคโทด
) ค่าปัจจุบัน ( ไอออน ) ที่ใช้ในระหว่างขั้นตอนการทำงาน
( เวลา ) ได้รับเลือกจากกระแสตรงและ
การทดสอบ msdc : 24 มา / cm2 แสดงระดับปัจจุบันที่ใช้ในการวิเคราะห์เบื้องต้นในขณะที่ 36 มา
/ cm2 ตั้งใจเป็น ความพยายามมาก
เพื่อปรับออกไซด์เชิงกล สมมติว่า
สูงกว่ากระแสที่ใช้ในโหมดตารางชีพจรช้า จะให้มีการระบายความร้อนแบบไม่ต่อเนื่องและชั่วคราว

) ความเข้มข้นของ สนามไฟฟ้าบนอินเตอร์เมทัลลิก .
และการศึกษาคุณสมบัติของออกไซด์ที่ได้กับขั้วบวกชีพจร
สรุปไว้ในตารางที่ 4 เปรียบเทียบกับผลลัพธ์ที่ดีที่สุดบรรลุ
ใน DC ( โดยง่ายหรือ multistep ขั้นตอน ) .
มากขึ้นอย่างมีนัยสำคัญปรับปรุงได้ด้วยชีพจร
anodizing เทคนิคเกี่ยวกับความแข็งนาโน ค่าที่วัดได้
ตามไซด์ข้ามส่วนค่าเฉลี่ยของพวกเขาอีก
เหนือความแข็งได้กับ DC และวงจร msdc เป็นโปรไฟล์ของ
, แสดงในรูปที่ 4 เบิกความ .
นาโนความแข็งโปรไฟล์ของตัวอย่าง anodized DC ตั้งค่า
− 2 °องศาเซลเซียสเป็นอุณหภูมินํ้า ( dc_2 ) แสดงที่น่าสนใจเพิ่มขึ้น
มีแนวโน้มออกไซด์ / อิเล็กโทรอินเตอร์เฟซซึ่งสาธิต
กล่าวไม่ดีของ ออกไซด์ใกล้โลหะออกไซด์ / อินเตอร์เฟซ ( เนื่องจากการแสดงตนของ microcracks

,เห็นรูปที่ 3B ) และยากมากออกไซด์
ใกล้ออกไซด์ / อิเล็กโทรอินเตอร์เฟซ , ขอบคุณสำหรับการกระทำที่ก้าวร้าวน้อยกว่ากรด
− 2 ° C PC โปรไฟล์ , อย่างน้อยในแรก 50 μ M แทน
มากเส้นตรงยืนยันวิธีการที่น่าประหลาดใจของออกไซด์เหล่านี้
และพิสูจน์ประสิทธิภาพของกระบวนการ ทดสอบในแง่ของประโยชน์

)ในทำนองเดียวกันในการปรับปรุงและขยายอัตราส่วนปริมาตร L *
พารามิเตอร์ข้อมูลพบว่าปัจจุบันในความเป็นจริงการออกไซด์ anodized
เปิดออกเพื่อจะกระชับมากขึ้น ( เสียง / vmet ~ 1.7 ) และมืดมาก
( L * ~ 34 ) เมื่อเทียบกับ DC และเคลือบ msdc . นอกจากนี้
พัลรอบปัจจุบัน แม้ว่ามีหลายช้า