SputteringSputtering, like evaporat

Sputtering
Sputtering, like evaporation, is performated in a vacuum chamber. The source material and the substrate (wafer) and placed on opposing parallel plates connected to a high-voltage power supply as pictured in Fig.4.13. During a deposition the chamber is fist evacuated.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

สปัตเตอร์สปัตเตอร์ เช่นระเหย performated ในห้องสุญญากาศได้ แหล่งวัสดุ และพื้นผิว (เวเฟอร์) และวางไว้บนแผ่นขนานตรงข้ามเชื่อมต่อกับแหล่งจ่ายไฟแรงดันสูงเป็นภาพใน Fig.4.13 ในระหว่างที่สะสม ในห้องเป็นกำปั้นที่อพยพ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

สปัตเตอร์
สปัตเตอร์เช่นการระเหยเป็น performated ในห้องสูญญากาศ วัสดุแหล่งที่มาและสารตั้งต้น (เวเฟอร์) และวางตรงข้ามแผ่นขนานเชื่อมต่อกับแหล่งจ่ายไฟแรงดันสูงเป็นภาพใน Fig.4.13 ในระหว่างการให้การของพยานในห้องที่มีการอพยพกำปั้น

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

สปัตเตอริงสปัตเตอร์ริง เช่น การระเหย คือ performated ในสูญญากาศ . แหล่งวัสดุและพื้นผิว ( wafer ) และวางไว้บนจานตรงข้ามขนานเชื่อมต่อกับแหล่งจ่ายไฟแรงดันสูงเป็นภาพใน fig.4.13 . ในช่วงของห้องคือ หมัดอพยพ .