Argon gas bubbling in the HF soluti

Argon gas bubbling in the HF solution prevented etching and produced no changes in weight or surface morphology of Pt-electrodeposited n-Silicon.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

อาร์กอนเดือดก๊าซในการแก้ปัญหา HF ป้องกันการแกะสลักและผลิตไม่มีการเปลี่ยนแปลงน้ำหนักหรือพื้นผิวสัณฐานวิทยาของ PT-electrodeposited n-ซิลิคอน

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ก๊าซอาร์กอนที่มีฟองในสารละลาย HF ป้องกันการแกะสลักและผลิตไม่มีการเปลี่ยนแปลงในน้ำหนักหรือสัณฐานวิทยาพื้นผิวของ Pt-การฝาก

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ฟองใน HF โซลูชั่นป้องกันการกัดกร่อนและไม่ได้เปลี่ยนน้ำหนักหรือลักษณะพื้นผิวของซิลิคอน