Before sputtering ITO films on the

Before sputtering ITO films on the substrates, the target was presputtered for about 5 min with a shutter covering the target in order to remove the surface oxidelayer.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ก่อนสปัตเตอร์ ITO ฟิล์มบนพื้นผิว เป้าหมายคือ presputtered ประมาณ 5 นาที ด้วยชัตเตอร์ที่ครอบคลุมเป้าหมายเพื่อที่จะเอา oxidelayer ผิว

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ก่อนที่สปัตเตอร์ภาพยนตร์ ITO กับพื้นผิวที่เป้าหมายถูก presputtered ประมาณ 5 นาทีชัตเตอร์ครอบคลุมเป้าหมายเพื่อที่จะลบ oxidelayer พื้นผิว

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ก่อนที่จะสโต้ ฟิล์มบนพื้นผิว เป้าหมายคือ presputtered ประมาณ 5 นาทีกับชัตเตอร์ครอบคลุมเป้าหมายเพื่อขจัดผิว oxidelayer .