The double deposition and stripping

The double deposition and stripping steps were proposed to increase the sensitivity in anodic stripping
voltammetry of lead and cadmium. Two in situ plated bismuth film electrodes at drastically different
surface areas were used for the measurements. Cadmium and lead were at first deposited atthe electrode
with a large surface area.When the deposition step atthe electrodewas finished,the electrodewas placed
at a short distance opposite the small one. Then Cd(II) and Pb(II) stripped from the first electrode were
deposited at the second electrode. Taking into account the small volume of space between the electrodes,
the concentration of Pb(II) and Cd(II) between the electrodes was drastically higher than that in the bulk
solution. The deposition step at the second electrode was performed from the solution with a higher
concentration of the determined ions, and so the detection limit was lowered. Calibration was performed
following deposition times of 300 and 120 s atthe first and the second electrode, respectively. Under such
conditions the detection limits of 1.8 × 10−10
and 4.5 × 10−11
mol L−1
for Pb(II) and Cd(II) were obtained,
respectively.

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

การสะสมคู่และขั้นตอนการลอกถูกเสนอให้เพิ่มความไวในการลอกขั้วบวก
ศักย์ของตะกั่วและแคดเมียม สองในแหล่งกำเนิดชุบขั้ว LM ไฟบิสมัทที่แตกต่างกันอย่างเห็นได้ชัด
พื้นที่ผิวถูกนำมาใช้สำหรับการตรวจวัด แคดเมียมและตะกั่วอยู่ที่สายแรกฝาก atthe อิเล็กโทรด
ที่มีพื้นผิวขนาดใหญ่ area.When ขั้นตอนการสะสม atthe electrodewas ไฟสำเร็จรูป, electrodewas ที่วางอยู่
ในระยะทางที่สั้นตรงข้ามเล็ก ๆ แห่งหนึ่ง จากนั้น Cd (II) และตะกั่ว (II) ถอดออกมาจากอิเล็กโทรสายแรกที่ถูก
นำไปฝากไว้ที่อิเล็กโทรดที่สอง โดยคำนึงถึงปริมาณเล็ก ๆ ของช่องว่างระหว่างขั้วไฟฟ้าที่
มีความเข้มข้นของตะกั่ว (II) และซีดี (II) ระหว่างขั้วไฟฟ้าเป็นอย่างมากสูงกว่าในกลุ่ม
การแก้ปัญหา ขั้นตอนการสะสมที่อิเล็กโทรดที่สองได้ดำเนินการจากการแก้ปัญหาที่มีความสูงกว่า
ความเข้มข้นของไอออนมุ่งมั่นและเพื่อให้การตรวจสอบวงเงินลดลง สอบเทียบได้ดำเนินการ
ดังต่อไปนี้ครั้งการสะสมของ 300 และ 120 s atthe สายแรกและอิเล็กโทรดที่สองตามลำดับ ภายใต้เช่น
เงื่อนไขข้อ จำกัด การตรวจสอบ 1.8 × 10-10
และ 4.5 × 10-11
mol L-1
สำหรับตะกั่ว (II) และซีดี (II) ที่ได้รับ,
ตามลำดับ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

การเคลือบสองครั้งและทำให้ขั้นตอนการเพิ่มความไวในการปอก
แคทไอออนของตะกั่วและแคดเมียม สองใน situ ชุบไฟฟ้าในพื้นที่ที่บิสมัทจึง LM พื้นผิวแตกต่างกัน
ใช้ในการวัด แคดเมียม และตะกั่วในจึงตัดสินใจเดินทางไปฝากที่ขั้ว
กับพื้นที่ผิวขนาดใหญ่ เมื่อขั้นตอนในการถ่ายทอด nished electrodewas ,การ electrodewas วางไว้
ที่ระยะทางสั้น ๆ ตรงข้ามกับหนึ่งเล็ก ซีดีแล้ว ( II ) และตะกั่ว ( II ) ถอดจากจึงตัดสินใจเดินทางขั้วถูก
ฝากไว้ที่ขั้วไฟฟ้า 2 คำนึงถึงปริมาณขนาดเล็กของพื้นที่ระหว่างขั้วไฟฟ้า
ความเข้มข้นของตะกั่ว ( II ) และซีดี ( 2 ) ระหว่างขั้วไฟฟ้าอยู่ในที่สูงกว่าในกลุ่ม
โซลูชั่นขั้นตอนการเคลือบขั้วที่สองได้จากสารละลายที่มีความเข้มข้นสูงกว่าที่กำหนด
ของไอออนและดังนั้นขีดจำกัดถูกลดลง การสอบเทียบได้ตามเวลาในการเคลือบ
300 และ 120 S อยู่จึงตัดสินใจเดินทางและขั้วที่สองตามลำดับ ภายใต้เงื่อนไขเช่น
การตรวจหาขอบเขตของ 1.8 × 10 −× 10 − 10
4.5 mol − 1
L
11สำหรับ Pb ( II ) และซีดี ( II ) ได้
ตามลำดับ