Air-bearing surface (ABS) is an important part on a slider head that can make a slider fly over the disk
media which is composed of suitable patterns and etched steps. The various ABS are designed for
controlling a variable amount of a positive pressure which generate a force to push the slider away from
disk and negative pressure which generate a force to pull the sliders towards the disk when there is a
balance between a push force and a pull force on slider head it will keep the slider head fly with a certain
distance over the disk so that to perform “read” and “write” functions.
In order to create ABS on sliders, lithography process and dry etching process are required. A General
lithography process of the slider fabrication is following these processes sequence; 1.) Laminated dry film(polymer base material) on Al2O3-TiC (or known in the industry is AlTiC) substrate and also can use Spin
or Spray technique to coat wet (Clariant AZ4620) film on the substrate. Both dry film and wet film are
photosensitive material also called “photoresist” or “resist”. 2.) Exposured step, it is the using a light
source at a certain wavelength to expose the light onto the photoresist. When photoresist is exposed, it
will be changed physical properties. This means, in the same time, some area is not experience with the
light (unexposed), it will not be changed its physical properties. Exposed and un-exposed areas are
obtained by mask blocking between a light source and a photoresist. 3.) Developed step; when the
photoresist is placed in a developer solution after exposured step, it will etch the unexposed area for a dry
film and vice versa for the wet film by means it will etch away of the exposed area. At this stage, the part
is ready to use for dry etching process. 4.) Dry etching process, there are two kinds of dry etching that
widely to use in the slider fabrication; Ion Beam Etching (IBE) or is known as Ion Milling (IM). IM use
the inert Ar gas as a plasma source. The reactive gas, such as SF6, CF4, H2, Cl2, BCl3 and also mix some
of them together as a plasma source for example CF4/H2 [1, 2], is used for RIE. The etch depth on the
ABS for the read and write slider head is generally less than 5
พื้นผิวอากาศเรือง (ABS) เป็นส่วนสำคัญบนหัวเลื่อนที่ทำให้แถบเลื่อนบินผ่านดิสก์สื่อซึ่งประกอบด้วยรูปแบบที่เหมาะสม และขั้นตอนการแกะสลัก ABS ต่าง ๆ ถูกออกแบบมาสำหรับการควบคุมยอดเงินผันแปรของแรงดันบวกที่สร้างแรงผลักดันเลื่อนออกจากดิสก์และความดันลบที่สร้างแรงจะดึงเลื่อนไปยังดิสก์เมื่อมี การสมดุลระหว่างแรงดันและแรงดึงบนหัวมันจะทำให้หัวเลื่อนบินด้วยแถบเลื่อนห่างจากที่พักผ่านดิสก์เพื่อให้สามารถ "อ่าน" และ "เขียน" ทำงานการสร้างแถบเลื่อน ABS กระบวนการภาพพิมพ์หินและกระบวนการกัดแห้งจำเป็นต้องใช้ ทั่วไปกระบวนการภาพพิมพ์หินประดิษฐ์เลื่อนเป็นขั้นลำดับกระบวนการเหล่านี้ 1) แห้งเคลือบฟิล์ม (พอลิเมอร์วัสดุพื้นฐาน) ในรับผลิตกระป๋อง Al2O3 (หรือที่รู้จักในอุตสาหกรรมเป็น AlTiC) พื้นผิว และยังสามารถใช้ปุ่มหมุนหรือเทคนิคการเสื้อเปียก (Clariant AZ4620) ฟิล์มบนพื้นผิวพ่น ฟิล์มที่แห้งและเปียกฟิล์มวัสดุ photosensitive เรียก "photoresist" หรือการ "ต่อต้าน" Exposured ขั้นตอนที่ 2) เป็นการใช้ไฟแหล่งที่ความเปิดเผยไฟบน photoresist เมื่อสัมผัส photoresist มันจะสามารถเปลี่ยนแปลงคุณสมบัติทางกายภาพ ซึ่งหมายความว่า ในเวลาเดียวกัน บางพื้นที่ไม่ได้ประสบการณ์กับการแสง (unexposed), มันจะไม่สามารถเปลี่ยนแปลงคุณสมบัติทางกายภาพ มีพื้นที่สัมผัส และไม่สัมผัสรับ โดยรูปแบบบล็อกระหว่างแหล่งกำเนิดแสงและตัว photoresist ขั้นตอน 3) Developed เมื่อการphotoresist อยู่ในโซลูชันที่พัฒนาหลังจากขั้นตอน exposured มันจะกัดบริเวณ unexposed สำหรับการซักแห้งฟิล์มทางระหว่างสำหรับฟิล์มเปียกโดยหมายความว่า มันจะกัดไปสัมผัสพื้นที่ ในขั้นตอนนี้ ส่วนจะพร้อมใช้งานสำหรับกระบวนการกัดแห้ง 4) แห้งกระบวนการแกะสลัก มีสองประเภทของการแกะสลักที่แห้งกันอย่างแพร่หลายเพื่อใช้ในการผลิตเลื่อน กัดลำไอออน (IBE) หรือเป็นที่รู้จักกันเป็นไอออนกัด (IM) ใช้ IMแก๊ส Ar inert เป็นแหล่งพลาสม่า การปฏิกิริยา แก๊ส SF6, CF4, H2, Cl2, BCl3 และยัง ผสมบางของพวกเขา รวมกันเป็นแหล่งพลาสม่า CF4/H2 [1, 2], ใช้สำหรับ RIE ความลึกของ etch ในการABS หัวเลื่อนการอ่านและการเขียนโดยทั่วไปจะน้อยกว่า 5
การแปล กรุณารอสักครู่..