(SiO2). This might be resulted from the introduction of N into thebackbone of PSZ network as a result of the nitridation reaction dur-ing pyrolysis under NH3atmosphere [32,33]. These observationssuggested that the pyrolysis of PSZ at 700◦C under various atmo-spheres resulted in the formation of SiOCairand SiONC(Ar, N2and NH3)ceramics films with different chemical composition on AlN surface.Morphology of untreated AlN, SiOC/AlNairandSiONC/AlN(Ar, N2and NH3)was observed by FE-SEM, shown inFig. 4. SEM images demonstrated that there was no remarkable dif-ferent in size and shape between untreated AlN and the modifiedAlN after pyrolysis at 700◦C under air, Ar, N2and NH3atmospheres.This observation was also consistent with XRD results as describedabove. The elemental composition of untreated AlN, SiOC/AlNairand SiONC/AlN(Ar, N2and NH3)were analyzed by EDS measurementas shown in Table 1. It was found that Si and O components
(SiO2) นี้อาจจะเป็นผลมาจากการแนะนำของไม่มีข้อความลงในเครือข่ายของ thebackbone PSZ เป็นผลมาจากการเกิดปฏิกิริยาไนไตรเธไอเอ็นจีไพโรไลซิภายใต้ NH3atmosphere [32,33] เหล่านี้ observationssuggested ว่าไพโรไลซิของ PSZ ที่700◦Cภายใต้ทรงกลม Atmo ต่างๆส่งผลให้เกิดการก่อตัวของ SiOCairand SiONC (Ar, N2and NH3) ภาพยนตร์เซรามิกที่มีองค์ประกอบทางเคมีที่แตกต่างกันของ ALN surface.Morphology ได้รับการรักษา ALN, SiOC / AlNairandSiONC / ALN ( Ar, N2and NH3) ได้รับการตรวจสอบโดย FE-SEM แสดง inFig 4. ภาพ SEM แสดงให้เห็นว่าไม่มีความแตกต่างที่โดดเด่น-ในขนาดและรูปร่างระหว่าง ALN ได้รับการรักษาและ modifiedAlN หลังจากที่ไพโรไลซิ700◦Cภายใต้อากาศ, Ar, N2and NH3atmospheres.This สังเกตก็ยังสอดคล้องกับผล XRD เป็น describedabove องค์ประกอบของธาตุ ALN ได้รับการรักษา SiOC / AlNairand SiONC / ALN (Ar, N2and NH3) ได้รับการวิเคราะห์โดย EDS measurementas แสดงในตารางที่ 1 พบว่าศรี O และส่วนประกอบ
การแปล กรุณารอสักครู่..
( SiO2 ) นี้อาจจะเนื่องมาจากการแนะนำของ n ใน thebackbone เครือข่าย psz เป็นผลของปฏิกิริยาไพโรไลซิสของเหล็กไนไตรไอเอ็นจีภายใต้ nh3atmosphere [ 32,33 ] เหล่านี้ observationssuggested ที่แยก psz ที่ 700 ◦ C ภายใต้ทรงกลม atmo ต่างๆส่งผลให้เกิดการก่อตัวของ siocairand sionc ( AR , n2and nh3 ) เครื่องเคลือบฟิล์ม มีองค์ประกอบทางเคมีที่แตกต่างกันบนพื้นผิว ALN .สัณฐานวิทยาของดิบ ALN sioc / , alnairandsionc / ALN ( AR , n2and nh3 ) สังเกตได้จาก fe-sem แสดง infig . 4 . จากภาพจะเห็นว่ามีไม่โดดเด่น ferent dif ในขนาดและรูปร่างระหว่าง ALN ดิบและ modifiedaln หลังจากที่ไพโรไลซิสที่ 700 ◦ C ภายใต้อากาศ , AR , n2and nh3atmospheres การสังเกตนี้ยังสอดคล้องกับผลวิเคราะห์เป็น describedabove .องค์ประกอบของธาตุดิบ ALN sioc / alnairand , sionc / ALN ( AR , n2and nh3 ) วิเคราะห์ข้อมูลโดย measurementas EDS แสดงดังตารางที่ 1 พบว่า องค์ประกอบ และ โอศรี
การแปล กรุณารอสักครู่..