The influence of substrate bias at

The influence of substrate bias at the wide range (0 to −500 V) on the deposition rate, surface morphology,
crystal structure, internal stress, and mechanical properties of the ZrN films were systematically investigated.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

อิทธิพลของความโน้มเอียงของพื้นผิวที่หลากหลาย (0 ถึง −500 V) อัตราสะสม สัณฐานวิทยาผิวระบบมีการตรวจสอบโครงสร้างผลึก เค้น และคุณสมบัติทางกลของฟิล์ม ZrN

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

อิทธิพลของสารตั้งต้นอคติที่หลากหลาย (0 ถึง -500 V) จากอัตราการสะสม, การเปลี่ยนรูปร่างพื้นผิว
โครงสร้างผลึกความเครียดภายในและสมบัติเชิงกลของฟิล์ม ZRN ถูกตรวจสอบอย่างเป็นระบบ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

наклона подложки), влияние на широкий диапазон (от 0 до - 500 V), скорость осаждения, morphology поверхностикристаллическая структура, внутри механических напряжений и атрибутов, исследования systematically поддержала это параметры.