It is noted that AlxGa1-xAs becomes indirect band gap material for x≥ 0.43, and GaAsxP1-x becomes indirect band gap material for x≥ 0.45. In general, many physical parameters of ternary compounds are determined by the parameters of the constituent binaries and vary roughly linearly with the composition. For example, in a ternary
compound semiconductor, the lattice constant varies linearly with the composition; this also holds true for the quaternary alloys as well.
The energy band structures presented in this section are extremely important for understanding the physical, optical, and electrical properties of semiconductor materials and devices. The energy band structures for semiconductors presented in this section will be used in explaining the physical and transport properties of a wide variety of semiconductor devices to be discussed throughout this book.
4.8. THE EFFECTIVE MASS CONCEPT FOR ELECTRONS AND HOLES
As described in Section 4.1 the most generalized solution of the electron wave functions in a periodic crystal is a plane wave modulated by the Bloch function, uk(r). For the time-dependent electron wave functions, this can be written as
()()(,ikrtkkrture ωφ⋅−= (4.109)
Since the wave function for a Bloch-type wave packet extends over the entire crystal lattice, the group velocity for such a wave packet is given by
()1gdEkdkv==∇⎛⎞⎜⎟⎝⎠ωh (4.110)
Note that the electron energy E(k) = ħω is used in Eq. (4.110) to define the group velocity, vg. According to Eq. (4.110), the group velocity of an electron wave packet is in the direction perpendicular to the constant-energy surface at a given wave vector k in the k-space. The group velocity can be determined by the gradient of energy with respect to wave vector k.
If a Lorentz force Fur, which may be due to either an electric field or a magnetic field, is applied to the electrons inside a crystal, then the wave vector of electrons will change with the applied Lorentz force according to the following relation:
()xBgdkFqdtv=⎛⎞−+==⎜⎟⎜⎟⎝⎠ rururururh&εh (4.111)
Where εuris the electric field, and is the magnetic flux density. The product is referred to the change of crystal momentum. Equation (4.111) shows that the external applied force acting on an electron tends to change the crystal Burkh&
momentum or the electron wave vector in a crystal lattice. The electron effective mass in a crystal lattice can be defined by
**vnngdFmamdt⎛⎞⎜==⎜⎝⎠ uururr (4.112)
Solving Eqs. (4.110) through (4.112) one obtains an expression of acceleration for electrons due to the applied Lorentz force, which is given by
22211gkdEddkdEadtdkdtdkv⎛⎞⎛⎞∇⎛⎞⎛⎞⎛⎞===⋅⎜⎟⎜⎟⎜⎟⎜⎟⎜⎟⎜⎟⎜⎟⎝⎠⎝⎠⎝⎠⎝⎠⎝⎠r rruhh (4.113)
Solving Eqs. (4.112) and (4.113) one obtains an expression of the reciprocal effective mass tensor for electrons whose component is given by
()()21*21ijijnEkmkk−⎛⎞∂⎛⎞=⎜⎜⎟⎜∂∂⎝⎠⎝⎠h (4.114)
Where i, j = 1, 2, 3… are the indices used to define the crystal orientations. From Eq. (4.114), it is noted that the reciprocal effective mass is directly proportional to the curvature of the energy band structure in the E vs. k plot. A large curvature near the conduction band minimum implies a small effective mass of electrons, and vice versa. For example, a comparison of the curvatures of the energy band diagrams near the bottom of conduction band for silicon and GaAs (see Fig.4.11) shows that silicon has a smaller curvature than GaAs near the conduction band minimum, and hence has a larger electron effective mass than that of GaAs crystal.
Another important concept to be discussed in this section is concerned with holes in the valence bands of a semiconductor. A hole in the valence band marks the absence of a valence electron or the creation of an empty state in the valence band. Furthermore, the motion of a hole can be regarded as the motion of a missing electron in the valence band. Since most of the holes reside near the top of the valence band maximum in which the curvature of the E versus k diagram is always negative, which implies a negative electron effective mass, it is appropriate to replace the missing electrons by the positively charged holes. This arrangement greatly simplifies the treatment of electronic conduction in the valence band of a semiconductor. By using the concept of holes, which has a positive effective mass and a positive charge, the inverse hole effective mass can be derived from the following expression:
2*2*111gkkhndEdtmmvFF′′⎛⎞⎛⎞⎛⎞=−=∇⋅=⎜⎟⎜⎟⎜⎟⎜⎟⎜⎟⎝⎠⎝⎠⎝⎠r uuruururh (4.115)
Which yields
2*211kkhEm′′⎛⎞=∇⎜⎟⎝⎠h (4.116)
Whereis the Lorentz force experienced by a hole. Thus, a hole in the valence band may be considered as a particle with a positive charge q and a positive effective mass mFuurh*. Figure 4.16 shows the electrons near the bottom of the conduction band and holes near the top of the valence band.
The effective mass concept presented above is particularly useful for describing the transport properties of a semiconductor. In a semiconductor, most of the electrons reside near the bottom of the conduction band, and holes are located near the top of the valence bands. If the energy band structures near the bottom of the conduction band and the top of the valence bands have spherical constant-energy surfaces, then the effective masses for both electrons and holes are given by a scalar quantity. If one assumes that both the conduction band minimum and the valence band maximum are located at k = 0 (i.e., at the zone center (Γ- point)), then the E–k relation can be expressed by
22*2kcnkEEm=+h (4.117)
for electrons in the conduction band, and
22*2kvhkEEm′′=−h (4.118)
for holes in the valence bands. Both the heavy- and light- hole bands degenerate into a single band at the top of the valence band edge.
Equations (4.117) and (4.118) may be used to describe the E-k relation for electrons near the bottom of conduction bands and holes near the top of the valence bands with parabolic band structure. These relations are valid for direct band gap semiconductors such as GaAs, InP, and InAs, in which the constant-energy surfaces near the conduction band minimum and the valence band maximum are assumed parabolic. If the constant-energy surface near the band edge is nonparabolic, then an effective mass tensor given by Eq. (4.116) should be used instead. For silicon and germanium, the constant-energy surface near the bottom of the conduction band is ellipsoidal, and the electron effective mass may be expressed in terms of its transverse and longitudinal effective masses (i.e., m*t and m*l). Both these masses can be determined by using the cyclotron resonance experiment performed at very low
temperature. The effective masses of electrons and holes for some practical semiconductors are listed in Table 4.1. Using the effective-mass concept for electrons in the conduction band and holes in the valence bands, one can treat both the electrons and holes as quasi-free particles, which in turn greatly simplify the mathematics of solving the carrier transport problems in a semiconductor.
4.9. ENERGY BAND STRUCTURES AND DENSITY OF STATES FOR LOW-
DIMENSIONAL SYSTEMS
In this section the band structure and the density of states for a heterostructure superlattice are depicted. In addition the density of states functions for the low- dimensional systems (0-D,1-D, 2-D, Q1-D, Q2-D systems) are also presented. With the advent of molecular beam epitaxy (MBE) and metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD) growth techniques, it is now possible to grow high-quality III-V semiconductor epitaxial layers composed of alternating material systems (e.g., AlGaAs/GaAs, InAlAs/InGaAs) with a few atomic layer thickness. As a result, extensive studies of the fundamental properties of superlattices, such as energy band structures and carrier transport in the growth direction of the superlattice layers, have been undertaken in recent years. Novel devices such as semiconductor lasers, infrared detectors, and modulators using quantum well/superlattice structures have been developed. Unlike the three-dimensional (3-D) system in which the size of the sample in the x, y, z directions is much larger than the de Broglie wavelength, (i.e., Lx, Ly, Lz >> λe), while the thickness of a two-dimensional (2-D) system along the growth direction is smaller than the de Broglie wavelength (edλ≤). For a GaAs crystal, this corresponds to a layer thickness of 25 nm or less at 300 K. In a 2-D system, carrier confinement occurs along the growth direction in which the layer thickness is comparable to the de Broglie wavelength, but retains quasi-free electron behavior within the plane of the superlattice.
มันจะตั้งข้อสังเกตว่า AlxGa1 xAs กลายเป็น วงอ้อมช่องว่างวัสดุสำหรับ x≥ 0.43 และ GaAsxP1 x กลายเป็น วงอ้อมช่องว่างวัสดุสำหรับ x≥ 0.45 ทั่วไป หลายพารามิเตอร์ทางกายภาพของสารสามถูกกำหนด โดยพารามิเตอร์ของไบนารีแฟ้ม ๆ และแตกต่างกันประมาณเชิงเส้นกับองค์ประกอบ ตัวอย่าง ในการดูสารกึ่งตัวนำผสม ค่าคงของโครงตาข่ายประกอบแตกต่างกันไปเชิงเส้นองค์ประกอบ นี้ยังถือเป็นจริงสำหรับโลหะผสม quaternary เช่นโครงสร้างของแถบพลังงานที่นำเสนอในส่วนนี้มีความสำคัญมากสำหรับการทำความเข้าใจทางกายภาพ แสง และคุณสมบัติทางไฟฟ้าของวัสดุสารกึ่งตัวนำและอุปกรณ์ โครงสร้างแถบพลังงานสำหรับอิเล็กทรอนิกส์ที่นำเสนอในส่วนนี้จะใช้ในการอธิบายจริง และคุณสมบัติที่หลากหลายของอุปกรณ์สารกึ่งตัวนำที่จะกล่าวถึงตลอดหนังสือเล่มนี้ในการขนส่ง4.8.แนวคิดโดยรวมมีประสิทธิภาพสำหรับอิเล็กตรอนและหลุมตามที่อธิบายไว้ในหัวข้อ 4.1 ที่สุดเมจแบบทั่วไปของฟังก์ชันคลื่นอิเล็กตรอนในผลึกเป็นครั้งคราวเป็นคลื่นระนาบสันทัด โดยฟังก์ชันเม็ดเลือดขาว uk(r) สำหรับฟังก์ชันคลื่นของอิเล็กตรอนขึ้นอยู่กับเวลา นี้สามารถเขียนเป็น()() (, ikrtkkrture ωφ⋅− = (4.109)เนื่องจากฟังก์ชันคลื่นสำหรับแพคเก็ตคลื่นเม็ดเลือดขาวชนิดขยายผ่านโครงตาข่ายประกอบคริสตัลทั้งหมด ความเร็วกลุ่มสำหรับแพคเก็ตการคลื่นดังกล่าวถูกกำหนดโดย1gdEkdkv () ∇⎛⎞⎜⎟⎝⎠ωh (4.110) ==หมายเหตุที่พลังงานอิเล็กตรอน E(k) =ħωใช้ใน Eq. (4.110) เพื่อกำหนดความเร็วกลุ่ม vg ตาม Eq. (4.110), ความเร็วกลุ่มของแพคเก็ตคลื่นอิเล็กตรอนอยู่ในทิศทางตั้งฉากกับพื้นผิวพลังงานคงที่ k เวกเตอร์กำหนดคลื่นในพื้นที่ k ความเร็วกลุ่มสามารถถูกกำหนด โดยการไล่ระดับของพลังงานกับ k เวกเตอร์คลื่นถ้าใช้อิเล็กตรอนภายในคริสตัลมีแรงลอเรนซ์ขน ซึ่งอาจเกิดจากการสนามไฟฟ้าหรือสนามแม่เหล็ก แล้วเวกเตอร์คลื่นของอิเล็กตรอนจะเปลี่ยนแปลง ด้วยแรงลอเรนซ์ประยุกต์ตามความสัมพันธ์ต่อไปนี้:xBgdkFqdtv () =⎛⎞−+= =⎜⎟⎜⎟⎝⎠ rururururh และ εh (4.111)ที่สนามไฟฟ้า εuris และความหนาแน่นฟลักซ์แม่เหล็ก ผลิตภัณฑ์ที่เรียกว่าการเปลี่ยนแปลงของโมเมนตัมของคริสตัล สมการ (4.111) แสดงว่า กองทัพใช้ภายนอกที่กระทำการอิเล็กตรอนมีแนวโน้มการ เปลี่ยนคริสตัล Burkh &โมเมนตัมหรือเวกเตอร์คลื่นอิเล็กตรอนในโครงตาข่ายประกอบคริสตัล สามารถกำหนดผลมวลอิเล็กตรอนในผลึกโครงตาข่ายประกอบด้วย** vnngdFmamdt⎛⎞⎜ ⎜⎝⎠ uururr (4.112) ==แก้ Eqs ถึง (4.110) (4.112) หนึ่งเหตุผลนิพจน์ของการเร่งอิเล็กตรอนเนื่องจากแรงลอเรนซ์ใช้ ซึ่งถูกกำหนดโดย22211gkdEddkdEadtdkdtdkv⎛⎞⎛⎞∇⎛⎞⎛⎞⎛⎞ === ⋅⎜⎟⎜⎟⎜⎟⎜⎟⎜⎟⎜⎟⎜⎟⎝⎠⎝⎠⎝⎠⎝⎠⎝⎠r rruhh (4.113)แก้ Eqs (4.112) และ (4.113) หนึ่งเหตุผลนิพจน์ของ tensor ประสิทธิภาพโดยรวมอัตราแลกเปลี่ยนสำหรับอิเล็กตรอนที่มีคอมโพเนนต์ถูกกำหนดโดย()() 21 * 21ijijnEkmkk−⎛⎞∂⎛⎞ = ⎜⎜⎟⎜∂∂⎝⎠⎝⎠h (4.114)ที่ i, j = 1, 2, 3...เป็นดัชนีที่ใช้ในการกำหนดแนวคริสตัล จาก Eq. (4.114), มันจะตั้งข้อสังเกตว่า โดยรวมมีประสิทธิภาพซึ่งกันและกันเป็นสัดส่วนโดยตรงกับขนาดของโครงสร้างแถบพลังงานใน E เทียบกับพล็อต k มวลผลขนาดเล็กหมายถึงโค้งใหญ่ใกล้แถบนำกระแสต่ำสุด ของอิเล็กตรอน และในทางกลับกัน ตัวอย่าง การเปรียบเทียบ curvatures วงพลังงานไดอะแกรมที่ด้านล่างของวงนำสำหรับซิลิคอน และ GaAs (ดู Fig.4.11) แสดงว่า ซิลิคอนมีขนาดเล็กกว่า GaAs ใกล้แถบนำกระแสต่ำสุด และดังนั้นจึง มีมวลผลอิเล็กตรอนมีขนาดใหญ่กว่าของ GaAs คริสตัลแนวคิดที่สำคัญอื่นที่จะอภิปรายในส่วนนี้จะเกี่ยวข้องกับหลุมในวงเวเลนซ์ของสารกึ่งตัวนำที่ หลุมในวงเวเลนซ์เครื่องของเวเลนซ์อิเล็กตรอนหรือการสร้างสถานะว่างในวงเวเลนซ์ นอกจากนี้ การเคลื่อนไหวของหลุมอาจถือเป็นการเคลื่อนไหวของอิเล็กตรอนขาดหายไปในวงเวเลนซ์ เนื่องจากส่วนใหญ่หลุมอยู่ใกล้ด้านบนของแถบเวเลนซ์สูงสุดซึ่งขนาดของ E เทียบกับ k ไดอะแกรมไว้ลบ ซึ่งหมายถึงมวลผลลบอิเล็กตรอน ได้เหมาะสมกับการแทนอิเล็กตรอนขาดหายไป โดยคิดค่าธรรมเนียมบวกหลุม การจัดเรียงนี้มากช่วยให้ง่ายการรักษานำอิเล็กทรอนิกส์ในวงเวเลนซ์ของสารกึ่งตัวนำที่ โดยใช้แนวคิดของหลุม ซึ่งมีค่าเป็นบวกและมวลผลบวก ผกผันหลุมมีประสิทธิภาพโดยรวมที่สามารถได้จากนิพจน์ต่อไปนี้:2 * 2 * 111gkkhndEdtmmvFF′′⎛⎞⎛⎞⎛⎞ =− =∇⋅ = ⎜⎟⎜⎟⎜⎟⎜⎟⎜⎟⎝⎠⎝⎠⎝⎠r uuruururh (4.115)ซึ่งทำให้2 * 211kkhEm′′⎛⎞ = ∇⎜⎟⎝⎠h (4.116)Whereis แรงลอเรนซ์ประสบการณ์ โดยรู ดังนั้น ในวงเวเลนซ์อาจถือเป็นอนุภาคที่มีการบวกค่า a และ q บวกผลรวม mFuurh * รูปที่ 4.16 แสดงหลุมใกล้ด้านบนของแถบเวเลนซ์อิเล็กตรอนอยู่ด้านล่างของวงจึงแนวคิดโดยรวมมีประสิทธิภาพนำเสนอข้างต้นเป็นประโยชน์สำหรับการอธิบายคุณสมบัติของสารกึ่งตัวนำการขนส่ง ในตัวสารกึ่งตัวนำ ส่วนใหญ่ของอิเล็กตรอนอยู่ใกล้ด้านล่างของวงการนำ และหลุมตั้งอยู่ใกล้ด้านบนของแถบเวเลนซ์ ถ้าโครงสร้างแถบพลังงานใกล้ด้านล่างของวงการนำ และด้านบนของแถบเวเลนซ์มีพื้นผิวคงพลังงานทรงกลม มวลชนที่มีประสิทธิภาพสำหรับอิเล็กตรอนและหลุมจะได้รับปริมาณสเกลา ถ้าหนึ่งสันนิษฐานว่า วงดนตรีจึงต่ำและแถบเวเลนซ์สูงสุดอยู่ที่ k = 0 (เช่น กลางโซน (Γ-จุด)), จาก นั้นสามารถแสดงความสัมพันธ์ E-k โดย22 * 2kcnkEEm = + h (4.117)สำหรับอิเล็กตรอนในแถบการนำ และ22 * 2kvhkEEm′′ = −h (4.118)สำหรับหลุมในวงเวเลนซ์ ทั้งหนัก และเบาหลุมวงดนตรีที่เสื่อมโทรมเป็นวงเดียวที่ด้านบนของขอบวงเวเลนซ์(4.118) และสมการ (4.117) อาจถูกใช้เพื่ออธิบายความสัมพันธ์ E-k สำหรับอิเล็กตรอนที่ด้านล่างของแถบนำกระแสและหลุมใกล้ด้านบนของแถบเวเลนซ์มีโครงสร้างวงจาน ความสัมพันธ์เหล่านี้ไม่ถูกต้องสำหรับวงตรงช่องว่างอิเล็กทรอนิกส์ เช่น GaAs, InP, InAs ซึ่งค่าคงพลังงานพื้นผิวใกล้แถบนำกระแสต่ำสุดและสูงสุดวงเวเลนซ์จะถือว่าจาน ถ้าค่าคงพลังงานพื้นผิวใกล้ขอบวง nonparabolic แล้ว tensor โดยรวมมีประสิทธิภาพโดย Eq. (4.116) ควรใช้แทน ซิลิกอนและเจอร์เมเนียม พลังงานคงพื้นผิวที่ด้านล่างของวงจึงเป็น ellipsoidal และอิเล็กตรอนมีประสิทธิภาพโดยรวมที่อาจแสดงในรูปของของฝูงที่มีประสิทธิภาพระยะยาว และ transverse (เช่น m * t และ m * l) ทั้งฝูงเหล่านี้สามารถถูกกำหนด โดยใช้ทดลองการสั่นพ้อง cyclotron ต่ำมากอุณหภูมิ มวลของอิเล็กตรอนและหลุมสำหรับบางอิเล็กทรอนิกส์ปฏิบัติมีประสิทธิภาพอยู่ในตาราง 4.1 โดยใช้แนวคิดโดยรวมมีประสิทธิภาพสำหรับอิเล็กตรอนในแถบนำกระแสและหลุมในวงเวเลนซ์ หนึ่งสามารถรักษาทั้งอิเล็กตรอนและหลุมเป็นอนุภาคกึ่งฟรี ซึ่งจะยิ่งคณิตศาสตร์ของการแก้ปัญหาการขนส่งบริษัทขนส่งในแบบสารกึ่งตัวนำ4.9 โครงสร้างของแถบพลังงานและความหนาแน่นของอเมริกาสำหรับต่ำ-ระบบมิติในส่วนนี้ โครงสร้างของดนตรีและความหนาแน่นของสถานะ heterostructure superlattice จะแสดง นอกจากนี้ ความหนาแน่นของอเมริกาฟังก์ชันสำหรับต่ำมิติระบบ (0-D, 1 D, 2-D, Q1 D, Q2 D ระบบ) จะยังมีการนำเสนอ ด้วยการมาถึงของลำแสงโมเลกุล epitaxy (MBE) และไอโลหะอินทรีย์เคมีเทคนิคการเจริญเติบโตสะสม (MOCVD) ตอนนี้สามารถได้เติบโตคุณภาพ III V สารกึ่งตัวนำ epitaxial ชั้นประกอบสลับวัสดุระบบ (เช่น AlGaAs/GaAs, InAlAs/InGaAs) มีความหนาชั้นอะตอมกี่ ดัง ศึกษาครอบคลุมคุณสมบัติพื้นฐานของ superlattices โครงสร้างแถบพลังงานและขนส่งบริษัทขนส่งในการทิศทางการเติบโตของชั้น superlattice มีการดำเนินในปีที่ผ่านมา รับนวนิยายอุปกรณ์ต่าง ๆ เช่นสารกึ่งตัวนำแสงเลเซอร์ เครื่องตรวจจับอินฟราเรด และข้อใช้ควอนตัมโครงสร้าง ดี/superlattice ซึ่งแตกต่างจากแบบสามมิติ (3-D) ระบบซึ่งขนาดของตัวอย่าง x, y, z ทิศทางมีขนาดใหญ่กว่าความยาวคลื่น de Broglie, (เช่น Lx ลี Lz >> λe), ใน ขณะที่ความหนาของระบบสองมิติ (2 มิติ) ตามทิศทางการเจริญเติบโตมีขนาดเล็กกว่าความยาวคลื่น de Broglie (edλ≤) สำหรับคริสตัลเป็น GaAs เท่ากับชั้นความหนา 25 นาโนเมตร หรือน้อยกว่าที่คุณ 300 ในระบบ 2 มิติ เข้าผู้ขนส่งเกิดขึ้นตามทิศทางการเติบโตที่ชั้นความหนาเทียบได้กับความยาวคลื่น de Broglie แต่ยังคงลักษณะกึ่งอิสระอิเล็กตรอนภายในเครื่องบินของ superlattice ที่
การแปล กรุณารอสักครู่..
