The sequential multilayer depositio

The sequential multilayer deposition can be carried out by immersing the substrate into the cationic and anionic dipping solutions, alternately.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

สามารถดำเนินการสะสมหลายชั้นเรียงตามลำดับได้ โดยแช่พื้นผิวลงในโซลูชัน จิ้มทั้ง cationic และ anionic สลับ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

การสะสมหลายลำดับสามารถดำเนินการได้โดยการแช่สารตั้งต้นเข้าไปในประจุบวกและประจุลบจุ่มโซลูชั่นสลับกัน

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

การเคลือบหลายชั้น ซึ่งสามารถดำเนินการได้โดยแช่แผ่นเป็นชนิดประจุบวกและประจุลบจุ่มโซลูชั่นสลับกัน