The introduction of E-beam lithogra

The introduction of E-beam lithography, 1- m CMOS baseline
technology, and related processing techniques to the MiRC
clean room, by the processing training program, has improved
the clean-room processing capability in two major areas: narrower
lithography technique for making individual and/or integrated
devices with better functionality and finer thin-film
techniques for MEMS devices.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

การแนะนำของ lithography E beam พื้นฐาน CMOS 1-mเทคโนโลยี และเทคนิคการประมวลผลที่เกี่ยวข้องกับ MiRCห้องพักสะอาด การฝึกอบรมโปรแกรมการประมวลผล มีการปรับปรุงความสามารถในการประมวลผลห้องพักสะอาดในสองพื้นที่หลัก: แคบเทคนิคการทำลวดลายวงจรสำหรับบุคคล และ/หรือบูรณาการอุปกรณ์ที่ มีฟังก์ชันการทำงานที่ดีกว่าและดีกว่าฟิล์มบางเทคนิคสำหรับอุปกรณ์ MEMS

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

การแนะนำของพิมพ์หิน E-คาน 1- ม. CMOS พื้นฐาน
ด้านเทคโนโลยีและเทคนิคการประมวลผลเกี่ยวข้องกับ mIRC
ห้องพักที่สะอาดโดยโปรแกรมการฝึกอบรมการประมวลผลที่มีการปรับปรุง
ความสามารถในการประมวลผลการทำความสะอาดห้องพักในสองพื้นที่หลัก: แคบ
เทคนิคการพิมพ์หินสำหรับการทำของแต่ละบุคคล และ / หรือบูรณาการ
อุปกรณ์ที่มีฟังก์ชันการทำงานที่ดีขึ้นและปลีกย่อยฟิล์มบาง
เทคนิคสำหรับอุปกรณ์ MEMS

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

การ e-beam สาแหรก 1 - M แบบพื้นฐานเทคโนโลยีและเทคนิคการประมวลผลที่เกี่ยวข้องกับ mIRCห้องพักสะอาด โดยโปรแกรมการประมวลผลการฝึกอบรม ได้มีการปรับปรุงห้องสะอาด ความสามารถในการประมวลผลในสองพื้นที่หลัก : แคบเทคนิคภาพพิมพ์หินที่ทำให้บุคคลและ / หรือบูรณาการอุปกรณ์ที่มีฟังก์ชันการทำงานที่ดีขึ้นและทำฟิล์มเทคนิค รวมทั้งอุปกรณ์