Clean-room users can now learn and

Clean-room users can now learn and use the 1- m-or-less
lithography technique to make radio-frequency devices, optical
devices, sensing devices, fuel-cell devices, ultrasonic devices,
and other CMOS-compatible devices. Fig. 8 shows a 1- m linespace
SiO stripe array coated with Ta–Cu seed layer for CMP
research

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ห้องพักสะอาดผู้ใช้ขณะนี้สามารถเรียนรู้ และใช้ 1 m- หรือน้อยเทคนิคภาพพิมพ์หินเพื่อให้อุปกรณ์ความถี่วิทยุ ออปติคอลอุปกรณ์ ตรวจจับอุปกรณ์ อุปกรณ์เซลล์เชื้อเพลิง อุปกรณ์อัลตราโซนิกและอุปกรณ์อื่น ๆ เข้ากันได้แบบ CMOS รูป 8 แสดง linespace เป็น 1 mยืนยันตัว้เรย์ลายที่เคลือบ ด้วยชั้นเมล็ดตา – Cu สำหรับ CMPวิจัย

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ผู้ใช้ทำความสะอาดห้องพักในขณะนี้สามารถเรียนรู้และใช้ 1- ม. หรือน้อยกว่า
เทคนิคการพิมพ์หินที่จะทำให้อุปกรณ์วิทยุความถี่แสง
อุปกรณ์, อุปกรณ์ตรวจจับอุปกรณ์เซลล์เชื้อเพลิงอุปกรณ์อัลตราโซนิก
และ CMOS เข้ากันได้กับอุปกรณ์อื่น ๆ มะเดื่อ. 8 แสดง 1- ม. linespace
SiO แถบอาร์เรย์เคลือบด้วยชั้นเมล็ด Ta-Cu สำหรับ CMP
วิจัย