A variety of cathodic arc plasma so

A variety of cathodic arc plasma sources have been designed and operated depending on the
specific application. Our smallest source has a cathode diameter of 3 mm and is operated in a
pulsed mode (typical pulse length 250 ps, 1-5 Hz); it is suited for the deposition of monolayers up
to films of 10 nm. Our largest source has a cathode diameter of 50 mm, is water-cooled, can
operate continuously, and is designed for the deposition of thick films in the micron range on large
substrates. For high-quality applications, macroparticle-free films are required, and all our sources
can be combined with 90 degrees bent magnetic macroparticle filters of various sizes. For other
applications a slight macroparticle contamination of the films can be tolerated and the sources are
operated without a filter. The sources and/or the substrates can be mounted on moveable
feedthroughs which allows the coating of complex or large substrates. A detailed description of
sources and filters can be found elsewhere [3-71.

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ความหลากหลายของแหล่งพลาสม่า cathodic โค้งได้รับการออกแบบและดำเนินการขึ้นอยู่กับการ
ใช้งานเฉพาะ แหล่งที่เล็กที่สุดของเรามีขนาดเส้นผ่าศูนย์กลางแคโทด 3 มิลลิเมตรและมีการดำเนินการใน
โหมดชีพจร (ความยาวชีพจรปกติ 250 PS, 1-5 Hz); มันเหมาะสำหรับการสะสมของ monolayers ขึ้น
กับภาพยนตร์ 10 นาโนเมตร แหล่งใหญ่ที่สุดของเรามีขนาดเส้นผ่าศูนย์กลางแคโทด 50 มิลลิเมตรเป็นน้ำระบายความร้อนสามารถ
ทำงานได้ต่อเนื่องและถูกออกแบบมาสำหรับการสะสมของฟิล์มหนาในช่วงไมครอนในขนาดใหญ่
พื้นผิว สำหรับการใช้งานที่มีคุณภาพสูงภาพยนตร์ macroparticle ฟรีที่จำเป็นและแหล่งที่มาของเรา
สามารถใช้ร่วมกับ 90 องศาก้มฟิลเตอร์ macroparticle แม่เหล็กขนาดต่างๆ อื่น ๆ
การใช้งานการปนเปื้อน macroparticle เล็กน้อยของภาพยนตร์สามารถได้รับการยอมรับและแหล่งที่มีการ
ดำเนินการได้โดยไม่ต้องกรอง แหล่งที่มาและ / หรือพื้นผิวที่สามารถเคลื่อนย้ายได้ติดตั้งอยู่บน
feedthroughs ซึ่งจะช่วยให้การเคลือบพื้นผิวที่ซับซ้อนหรือมีขนาดใหญ่ อธิบายรายละเอียดของ
แหล่งที่มาและฟิลเตอร์ที่สามารถพบได้ที่อื่น ๆ [3-71

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ความหลากหลายของแหล่งกำเนิดพลาสมาอาร์คเหล็กได้รับการออกแบบและดำเนินการขึ้นอยู่กับโปรแกรมที่เฉพาะเจาะจง แหล่งที่เล็กที่สุดของเรามีเส้นผ่าศูนย์กลาง 3 มิลลิเมตร และขั้วลบจะดำเนินการในพัลโหมด ( ปกติชีพจรความยาว 250 ps 1-5 Hz ) ; มันเป็นเหมาะสำหรับการสะสมของ monolayers ตั้งขึ้นภาพยนตร์ 10 นาโนเมตร แหล่งใหญ่ที่สุดของเรามีขนาดเส้นผ่านศูนย์กลาง 50 มม. เป็นแคโทด , ด้วย ,งานต่อเนื่อง และถูกออกแบบมาสำหรับการสะสมของฟิล์มหนาในช่วงไมครอนบนขนาดใหญ่ท สำหรับการใช้งานที่มีคุณภาพสูงภาพยนตร์ macroparticle ฟรีเป็นต้องใช้ และแหล่งที่มาของเราทั้งหมดสามารถรวมกับ 90 องศา งอ macroparticle แม่เหล็กกรองขนาดต่างๆ สำหรับอื่น ๆการประยุกต์ใช้การปนเปื้อน macroparticle เล็กน้อยของภาพยนตร์ที่สามารถทนและแหล่งข้อมูลดำเนินการโดยตัวกรอง แหล่งที่มาและ / หรือสามารถติดตั้งได้บนพื้นผิวfeedthroughs ซึ่งช่วยเคลือบพื้นผิวที่ซับซ้อน หรือขนาดใหญ่ มีรายละเอียดของแหล่งที่มาและตัวกรองที่สามารถพบได้ในที่อื่น ๆ [ 3-71 .