the critical thickness for SiOx coa

the critical thickness for SiOx coatings deposited by PECVD has been reported to be in the range of 500 to 2000 nm

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ความหนาที่สำคัญสำหรับไม้แปรรูป SiOx ฝาก ด้วย PECVD มีรายงานว่า อยู่ในช่วง 500 ถึง 2000 nm

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ความหนาที่สำคัญสำหรับการเคลือบ SiOx ฝาก PECVD ได้รับรายงานว่าจะอยู่ในช่วงของการ 500-2,000 นาโนเมตร

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ความหนาอย่าง siox เคลือบเงินโดย pecvd ได้ในช่วง 500 - 2000 nm