Figure 1. Schematic setup of the th

Figure 1. Schematic setup of the thermal-assisted PLD system. A
pressed Zn3P2/ZnO/Zn target is ablated with an excimer laser, and
ZnO/C source materials are in the middle. Vapors are released and
recondensed as Zn3P2 nanostructures on the target and substrate.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

รูปที่ 1 ตั้งค่าแผนผังของระบบ PLD ช่วยระบายความร้อน Aกด Zn3P2/ZnO/Zn เป้าหมายคือ ablated เป็นเครื่องเลเซอร์ และเนื้อหาแหล่ง ZnO/C อยู่ตรงกลาง ไอระเหยออก และrecondensed เป็น Zn3P2 nanostructures บนเป้าหมายและพื้นผิว

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

รูปที่ 1 การติดตั้งแผนผังของความร้อนช่วยระบบ PLD
กดเป้าหมาย Zn3P2 / ZnO / Zn จะระเหยกับ excimer เลเซอร์และ
ZnO / C แหล่งวัสดุที่มีอยู่ตรงกลาง ไอระเหยที่มีการเปิดตัวและ
recondensed เป็นโครงสร้างนาโน Zn3P2 ในเป้าหมายและสารตั้งต้น

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

รูปที่ 1 การติดตั้งวงจรของ PLD ความร้อนช่วยระบบ เป็นกด zn3p2 / ZnO / สังกะสี เป้าหมายคือ ablated ด้วย Excimer เลเซอร์และP / C วัสดุที่มาอยู่ตรงกลาง ไอที่ออกและrecondensed เป็นนาโน zn3p2 บนชิ้นงานและวัตถุดิบ