Two factors including annealing tem

Two factors including annealing temperature and number of
cycle dip coating of thin films were also investigated to evaluate
the best condition for degradation efficiency of MO solution under
visible light irradiation and the results were shown in Fig. 10. It
is found that at temperature 300 and 400 ◦C photocatalytic activity
is very poor and optimal photocatalytic efficiency is obtained
at 500 ◦C (Fig. 10(a)). The melting glass slides temperature is above
than 600 ◦C, therefore we cannot consider the higher temperatures.
Therefore, the Tu/PEG–TiO2 calcined at 500 ◦C owns the highest
photocatalytic activity. Fig. 10(b) shows the influence of number
of cycle dip coating of thin films to degradation of MO solution
under visible light. It is found that the samples with 5, 10, 15 and
20 times dip coating, exhibit the similar photocatalytic activity and
only photoactivity of thin film with once dip coating became less.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ปัจจัยที่สองได้แก่การอบเหนียวอุณหภูมิและจำนวนรอบชุบเคลือบฟิล์มบางยังตรวจสอบประเมินเงื่อนไขดีที่สุดสำหรับประสิทธิภาพในการย่อยสลายของ MO ภายใต้วิธีการฉายรังสีแสงมองเห็นได้และผลลัพธ์ถูกแสดงใน Fig. 10 มันจะพบว่าที่อุณหภูมิ 300 และ 400 ◦C กระกิจกรรมดีมาก และดีที่สุดรับกระอย่างมีประสิทธิภาพที่ 500 ◦C (Fig. 10(a)) เป็นอุณหภูมินิ่งแก้วละลายข้างต้นกว่า 600 ◦C ดังนั้นเราไม่สามารถพิจารณาอุณหภูมิสูงดังนั้น การ ตู/PEG-TiO2 เผาผลิตภัณฑ์ที่ 500 ◦C เป็นเจ้าของสูงกิจกรรมกระ Fig. 10(b) แสดงอิทธิพลของหมายเลขวงจรจุ่มเคลือบฟิล์มบางเพื่อการย่อยสลายของ MOภายใต้แสงที่มองเห็น พบว่าตัวอย่าง 5, 10, 15 และ20 ครั้งจุ่มเคลือบ แสดงกิจกรรมกระคล้ายกัน และphotoactivity เฉพาะของฟิล์มบางด้วยเมื่อ จุ่มเคลือบกลายเป็นน้อย

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

สองปัจจัยรวมถึงอุณหภูมิการหลอมและจำนวนของ
สารเคลือบผิวรอบจุ่มของฟิล์มบางยังถูกตรวจสอบเพื่อประเมิน
สภาพที่ดีที่สุดเพื่อให้มีประสิทธิภาพการย่อยสลายของ MO แก้ปัญหาภายใต้
การฉายรังสีแสงที่มองเห็นและผลที่ได้แสดงในรูปที่ 10 มัน
พบว่าที่อุณหภูมิ 300 และ 400 ◦Cกิจกรรมปฏิกิริยา
เป็นปฏิกิริยาที่มีประสิทธิภาพมากที่ไม่ดีและดีที่สุดจะได้รับ
ที่ 500 ◦C (รูปที่. 10 (ก)) อุณหภูมิสไลด์แก้วละลายอยู่เหนือ
กว่า 600 ◦Cดังนั้นเราจึงไม่สามารถพิจารณาอุณหภูมิที่สูงขึ้น
ดังนั้น Tu / PEG-TiO2 เผาที่ 500 ◦Cเป็นเจ้าของมากที่สุด
กิจกรรมปฏิกิริยา มะเดื่อ 10 (ข) แสดงให้เห็นถึงอิทธิพลของจำนวน
ของสารเคลือบผิวรอบกรมทรัพย์สินทางปัญญาของฟิล์มบางที่จะย่อยสลายของ MO แก้ปัญหา
ภายใต้แสงที่มองเห็น นอกจากนี้ยังพบว่ากลุ่มตัวอย่างที่มี 5, 10, 15 และ
20 ครั้งเคลือบจุ่มแสดงกิจกรรมปฏิกิริยาที่คล้ายกันและ
photoactivity เฉพาะของฟิล์มบางที่มีครั้งเดียวจุ่มเคลือบกลายเป็นน้อย

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

2 ปัจจัย ได้แก่ อุณหภูมิการอบอ่อน และจำนวนรอบจุ่มเคลือบฟิล์มบาง ๆ

ยังตรวจสอบเพื่อประเมินสภาพที่ดีที่สุดสำหรับประสิทธิภาพการย่อยสลายของโมโซลูชั่นภายใต้
รังสีแสงที่มองเห็นและผลลัพธ์ที่ได้แสดงในรูปที่ 10 มัน
พบว่า ที่อุณหภูมิ 300 C และ 400 ◦รีกิจกรรม
เป็นอย่างมากที่ยากจนและประสิทธิภาพที่ดีที่สุดได้
รี500 ◦ C ( รูปที่ 10 ( ) ) การหลอมอุณหภูมิกระจกสไลด์ข้างบน
กว่า 600 ◦ C , ดังนั้นเราจึงไม่สามารถพิจารณาอุณหภูมิที่สูงขึ้น
ดังนั้น มธ. / PEG ( TiO2 เผาที่ 500 ◦ C สูงสุด
รีเป็นเจ้าของกิจกรรม รูปที่ 10 ( b ) แสดงให้เห็นถึงอิทธิพลของหมายเลข
วงจรจุ่มเคลือบฟิล์มบางเพื่อการย่อยสลายของ
โซลูชั่นโมภายใต้แสงที่มองเห็น . พบว่ากลุ่มตัวอย่างมี 5 , 10 ,15
20 ครั้ง จุ่มเคลือบ มีความว่องไวที่คล้ายกันและ
photoactivity เพียงจุ่มเคลือบฟิล์มบางครั้งก็น้อยกว่า