The influence of sputtering paramet

The influence of sputtering parameters and annealing on the structure and optical properties of TiO2 thin films deposited by RF magnetron sputtering is reported. A pure TiO2 target was used to deposit the films on Si(100) and glass substrates, and Ar/O2 gas mixture was used for sputtering. It was found that both the structure and the optical properties of the films depend on deposition parameters and annealing. In all cases the as-deposited films were oxygen deficient, which could be compensated by post-deposition annealing. Changes in the Ar/O2 mass flow rate affected the films from an amorphous-like structure for samples deposited without oxygen to a structure where nano-crystalline rutile phase is detected in those deposited with O2. Annealing of the samples yielded growth of both, rutile and anatase phases, the ratio depending on the added oxygen content. Increasing mass flow rate of O2 and annealing are responsible for lowering of the energy band gap values and the increase in refractive index of the films. The results can be interesting towards the development of TiO2 thin films with defined structure and properties.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

รายงานอิทธิพลของพารามิเตอร์การพ่น และการอบเหนียวบนโครงสร้างและคุณสมบัติของฟิล์มบาง TiO2 ฝาก โดยพ่น magnetron RF แสง เป้าหมาย TiO2 บริสุทธิ์ใช้ฝากภาพยนตร์บนพื้นผิวแก้วและ Si(100) และใช้สำหรับพ่นผสมแก๊ส Ar/O2 พบว่า โครงสร้างและคุณสมบัติของฟิล์มแสงขึ้นอยู่กับพารามิเตอร์สะสมและการอบเหนียว ในทุกกรณี ฟิล์มฝากเป็นมีออกซิเจนขาดสาร ซึ่งสามารถชดเชยได้ โดยสะสมหลังการอบเหนียว เปลี่ยนแปลงในอัตราการไหลเชิงมวล Ar/O2 ได้รับผลกระทบฟิล์มจากโครงสร้างไปเหมือนตัวอย่างที่ฝาก โดยไม่มีออกซิเจนโครงสร้างที่มีการตรวจพบระยะนาโนผลึก rutile ผู้ฝากกับ O2 การอบเหนียวอย่างที่ผลเจริญเติบโตของทั้งสอง rutile และ anatase ระยะ อัตราส่วนตามเนื้อหาเพิ่มออกซิเจน เพิ่มอัตราการไหลเชิงมวลของ O2 และการอบเหนียวจะชอบลดค่าช่องว่างแถบพลังงานและการเพิ่มขึ้นของดรรชนีหักเหของภาพยนตร์ ผลลัพธ์ได้น่าสนใจที่มีต่อการพัฒนาฟิล์มบาง TiO2 มีกำหนดโครงสร้างและคุณสมบัติ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

อิทธิพลของพารามิเตอร์สปัตเตอร์และการหลอมเกี่ยวกับโครงสร้างและคุณสมบัติทางแสงของ TiO2 ฟิล์มบางฝาก RF magnetron สปัตเตอร์มีรายงาน เป้าหมาย TiO2 บริสุทธิ์ถูกใช้ในการฝากภาพยนตร์ในศรี (100) และพื้นผิวกระจกและ Ar / O2 ส่วนผสมของก๊าซที่ใช้สำหรับสปัตเตอร์ พบว่าทั้งโครงสร้างและคุณสมบัติทางแสงของภาพยนตร์ขึ้นอยู่กับพารามิเตอร์การสะสมและการหลอม ในทุกกรณีภาพยนตร์ตามที่ฝากขาดออกซิเจนซึ่งจะได้รับการชดเชยจากการหลอมการโพสต์การสะสม การเปลี่ยนแปลงใน Ar / O2 อัตราการไหลของมวลได้รับผลกระทบจากภาพยนตร์โครงสร้างสัณฐานเหมือนสำหรับตัวอย่างโดยไม่ออกซิเจนไปยังโครงสร้างที่เฟสรูไทล์ผลึกนาโนมีการตรวจพบในผู้ที่ฝากไว้กับ O2 หลอมของกลุ่มตัวอย่างให้ผลการเจริญเติบโตของทั้งสอง rutile และขั้นตอนแอนาเทสอัตราส่วนขึ้นอยู่กับปริมาณออกซิเจนเพิ่ม การเพิ่มขึ้นของอัตราการไหลของมวลของ O2 และหลอมมีความรับผิดชอบในการลดของค่าช่องว่างแถบพลังงานและการเพิ่มขึ้นของดัชนีหักเหของภาพยนตร์ ผลที่ได้เป็นที่น่าสนใจต่อการพัฒนาของ TiO2 ฟิล์มบางที่มีโครงสร้างและคุณสมบัติที่กำหนดไว้

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

อิทธิพลของพารามิเตอร์และสปัตเตอร์ annealing ต่อโครงสร้างและสมบัติทางแสงของฟิล์มบาง TiO2 ฝากโดยแมกนีตรอนสปัตเตอร์ RF เป็น รายงาน เพียว ) เป้าหมายใช้ฝากภาพยนตร์ที่เกี่ยวกับศรี ( 100 ) และพื้นผิวกระจก และ AR / O2 ผสมก๊าซ ใช้สำหรับทำงาน .พบว่า โครงสร้างและสมบัติทางแสงของฟิล์มขึ้นอยู่กับพารามิเตอร์การเคลือบและอบ . ในทุกกรณี เช่น ฝากภาพยนตร์กำลังขาดออกซิเจน ซึ่งจะได้รับการชดเชย โดยการตอบกระทู้ .การเปลี่ยนแปลงใน O2 AR / อัตราการไหลของมวลผลกระทบภาพยนตร์จากสัณฐานเช่นโครงสร้างอย่างฝากไม่มีออกซิเจนในโครงสร้างผลึกนาโนเฟสรูไทล์ ที่ตรวจพบในผู้ที่ฝากไว้กับ O2 . ขนาดของตัวอย่างให้ผลการเจริญเติบโตของทั้งสอง และเฟสรูไทล์แอนาเทส , อัตราส่วนขึ้นอยู่กับเพิ่มปริมาณออกซิเจน .การเพิ่มอัตราการไหลของออกซิเจนและการอบอ่อนที่รับผิดชอบของการลดช่องว่างแถบพลังงานและเพิ่มค่าดัชนีหักเหของภาพยนตร์ ผลลัพธ์ที่ได้น่าสนใจต่อการพัฒนาฟิล์มบาง TiO2 ด้วยคุณสมบัติที่กำหนดโครงสร้างและ