His work experience includes resear

His work experience includes researcher at NASA and IBM and professor at Howard University. He is a recognized pioneer in the fabrication of plasma semiconductor devices, and his patent "Process for Controlling the Slope of a Via Hole" was an important contribution to the process of plasma etching. This procedure is now used by many semiconductor manufacturing companies. Alcorn was one of the first scientists to present a computer-modeling solution of wet etched and plasma etched structures, and he has received several cash prizes for his inventions of plasma-processing techniques.

He has received numerous awards and honors for his work. He has been a member of several professional organizations, including IEEE and the Electrochemical Society.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ประสบการณ์ในการทำงานของเขารวมถึงนักวิจัยที่นาซาและ IBM และศาสตราจารย์ที่มหาวิทยาลัยฮาวเวิร์ด เขาเป็นผู้บุกเบิกการรับรู้ในการประดิษฐ์ของอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์พลาสม่าและสิทธิบัตร "กระบวนการในการควบคุมความลาดเอียงของหลุมผ่านทาง" ของเขาเป็นผลงานที่สำคัญในการกระบวนการของการแกะสลักพลาสม่า ขั้นตอนนี้จะใช้ในขณะนี้โดย บริษัท ผลิตเซมิคอนดักเตอร์หลายอัลคอร์นเป็นหนึ่งในนักวิทยาศาสตร์คนแรกที่นำเสนอโซลูชั่นการสร้างแบบจำลองคอมพิวเตอร์ของเปียกแกะสลักและพลาสม่าโครงสร้างสลักและเขาได้รับรางวัลเงินสดหลายสิ่งประดิษฐ์ของเขาของเทคนิคการประมวลผลพลาสม่า.

เขาได้รับรางวัลมากมายและได้รับเกียรตินิยมสำหรับการทำงานของเขา . เขาได้รับการเป็นสมาชิกขององค์กรวิชาชีพหลายแห่งรวมถึง IEEE และไฟฟ้าสังคม.

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ประสบการณ์การทำงานของเขารวมถึงนักวิจัยนาซา และ IBM และศาสตราจารย์ที่มหาวิทยาลัยฮาเวิร์ด เขาเป็นผู้บุกเบิกในการผลิตอุปกรณ์สารกึ่งตัวนำพลาสมารู้จัก และเขาสิทธิบัตร "กระบวนการสำหรับการควบคุมลาดของตัวผ่านหลุม" มีส่วนร่วมในกระบวนการของกัดพลาสม่า ตอนนี้ใช้ขั้นตอนนี้ โดยบริษัทผู้ผลิตสารกึ่งตัวนำจำนวนมาก Alcorn เป็นหนึ่งในนักวิทยาศาสตร์แรกนำเสนอโซลูชั่นคอมพิวเตอร์โมเดลเปียกสลักและโครงสร้างของพลาสม่าที่สลัก และเขาได้รับหลายรางวัลสำหรับสิ่งประดิษฐ์ของเขาของการประมวลผลพลาสม่าเทคนิค

เขาได้รับรางวัลจำนวนมาก และเกียรตินิยมอันดับสำหรับการทำงานของเขา เขาได้เป็นสมาชิกของหลายองค์กรมืออาชีพ สมาคมไฟฟ้าและ IEEE

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ประสบการณ์การทำงานของเขารวมถึงนักวิจัยที่ NASA และศาสตราจารย์และ IBM ที่ Howard มหาวิทยาลัย เขาได้รับการยอมรับว่าเป็นผู้บุกเบิกในการของอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์จอพลาสม่าและสิทธิบัตร"กระบวนการของเขาสำหรับการควบคุมความลาดชันของผ่านทางรู"มาสนับสนุนที่สำคัญเพื่อทำขั้นตอนของการทำแม่พิมพ์จอพลาสม่า ในขั้นตอนนี้จะใช้งานโดยบริษัทเซมิคอนดักเตอร์การผลิตจำนวนมากในปัจจุบันนี้alcorn เป็นหนึ่งในบรรดานักวิทยาศาสตร์คนแรกที่มีโซลูชันคอมพิวเตอร์ - การสร้างแบบจำลองที่มีโครงสร้างที่เป็นรอยสลักและพลาสมาที่เป็นรอยสลักเปียกชื้นและเขาได้รับรางวัลเงินสดหลายแห่งเพื่อใช้เทคนิคการประดิษฐ์ของเขาพลาสมา - การประมวลผล.

เขาได้รับรางวัลและที่ได้รับรางวัลจำนวนมากสำหรับการทำงานของเขา เขาได้รับการแต่งตั้งเป็นกรรมการขององค์กรมืออาชีพที่หลากหลายรวมถึงและ IEEE electrochemical สังคม.