3. Results and discussion3.1. The s

3. Results and discussion
3.1. The structure of ZnO film
Fig. 1 shows the XRD traces (u–2u) of the ZnO thin
films on quartz glass substrate obtained by the
oxidation of metal Zn film at 550 8C with the oxygen
pressure from 50 to 23,000 Pa. It can be seen that the
sample annealed at 550 8C with the oxygen ambient of
50 Pa shows a pattern of ZnO peaks, and very small Zn
(1 0 1) peak was detected. When oxygen pressure
increases above 500 Pa, Zn (1 0 1) peak disappears.
The XRD patterns for the ZnO films indicated that
they possess a polycrystalline hexagonal wurtzite
crystal structure with no preferred orientation. Seven
peaks appear at 2u = 31.78, 34.368, 36.188, 47.428,
56.568, 62.948 and 67.868, which corresponds to
(1 0 0), (0 0 2), (1 0 1), (1 0 2), (1 1 0), (1 0 3) and
(1 1 2) directions of the hexagonal ZnO structure,
respectively. In order to evaluate the mean grain size
(d) of the films, we adopted the Scherrer formula [15]:
d = 0.94l/B cos uB, where l, B and uB are the X-ray
wavelength (1.54056 A ° ), Bragg diffraction angle, and
linewidth at half maximum of (1 0 1) peak around
36.188, respectively. The mean grain sizes of the
samples are 14.1, 15.8, 14.8, and 18.4 nm for the
samples annealed at 550 8C with 50, 500, 5000, and

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

3. ผลลัพธ์ และสนทนา3.1.โครงสร้างของ ZnOFig. 1 แสดงร่องรอย XRD (u – คลุม 2u) ของ ZnO บางฟิล์มบนพื้นผิวแก้วควอตซ์ได้โดยการออกซิเดชันโลหะ Zn ฟิล์มที่ 8C 550 กับออกซิเจนแรงดันจาก 50 23,000 Pa. จะเห็นได้ที่นี้annealed ที่ 8C 550 กับออกซิเจนสภาวะของตัวอย่าง50 Pa แสดงเป็นรูปแบบของ ZnO พีคส์ และ Zn เล็ก ๆ(1 0 1) พบสูงสุด เมื่อความดันของออกซิเจนเพิ่มเหนือ 500 Pa, Zn (1 0 1) สูงสุดหายไประบุรูปแบบ XRD สำหรับฟิล์ม ZnO ที่พวกเขามี wurtzite หกเหลี่ยมเป็นคโครงสร้างผลึกกับแนวไม่ต้อง เจ็ดพีคส์ปรากฏที่คลุม 2u = 31.78, 34.368, 36.188, 47.42856.568, 62.948 และ 67.868 ซึ่งสอดคล้องกับ(1 0 0), (0 0 2), (1 0 1), (1 0 2), (1 1 0), (3 0 1) และ(1 1 2) ทิศทางของโครงสร้าง ZnO หกเหลี่ยมตามลำดับ การประเมินขนาดเมล็ดเฉลี่ย(d) ของฟิล์ม เรานำสูตร Scherrer [15]:d = 0.94 l/B cos ยูบี l, B และยูบีเอกซเรย์ความยาวคลื่น (1.54056 A °) มุมการเลี้ยวเบนของ Bragg และlinewidth ที่สูงสุดสูงสุด (1 0 1) ครึ่งรอบ36.188 ตามลำดับ ขนาดเมล็ดเฉลี่ยของการตัวอย่าง 14.1 สา 15.8, 14.8 และ 18.4 nm สำหรับการตัวอย่าง annealed ที่ 550 8C 50, 500, 5000 และ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

3 . ผลและการอภิปราย
3.1 . โครงสร้างของฟิล์ม ZnO
รูปที่ 1 แสดงตรวจร่องรอย ( u ( 2U ) ของซิงค์ออกไซด์ฟิล์มบางบนแผ่นแก้วควอทซ์

ได้โดยการออกซิเดชันของฟิล์มสังกะสีโลหะที่ 550 8C ด้วยออกซิเจนความดันจาก 50 000
เป็นต้นจะเห็นได้ว่า ตัวอย่างที่ 550 8C
อบกับออกซิเจน บรรยากาศของ
50 PA แสดงรูปแบบของยอด ZnO และขนาดเล็กมากสังกะสี
1 0 1 ) สูงสุดที่ตรวจพบเมื่อออกซิเจนความดัน
เพิ่มสูงกว่า 500 ปา Zn ( 1 0 1 ) ยอดหายไป .
XRD รูปแบบสำหรับฟิล์มซิงค์ออกไซด์พบว่าพวกเขามีรูปผลึกหกเหลี่ยม wurtzite

โครงสร้างผลึกด้วยไม่ต้องใช้ 7
ยอดปรากฏที่ 2U = ) 34.368 36.188 47.428 , , , ,
56.568 62.948 67.868 , และ , ซึ่งสอดคล้องกับ
1 0 0 ) , ( 0 0 ) ( 0 , 1 , 1 ) ( 0 , 1 ) 2 ( 1 , 0 ) , ( 1 , 0
3 ) และ( 1 2 ) ทิศทางของโครงสร้าง , ZnO หกเหลี่ยม
ตามลำดับ เพื่อประเมินว่าขนาดเม็ด
( D ) ของฟิล์ม เราใช้สูตรเชเรอร์ [ 15 ] :
d = 0.94l/b cos UB ที่ L , b และ UB จะเอ็กซเรย์
ความยาวคลื่น ( 1.54056 เป็นองศา ) แบร็กเลนส์มุม และโฟโตลูมิเนสเซนต์
สูงสุดครึ่ง ( 1 0 1 ) ยอดรอบ
36.188 ตามลำดับ หมายถึงขนาดของเม็ด
ตัวอย่างมีขนาด 14.8 , 15.8 , ,และค่าบริการ nm สำหรับ
ตัวอย่างอบที่ 550 8C 50 , 500 , 5 , 000 , และ