Primarily,a seed layer of 30 nm was

Primarily,a seed layer of 30 nm was growm by RF magnetron sputtering on cleaned indium tin oxide coated glass substrate .

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

หลัก เมล็ดชั้น 30 nm ถูก growm โดย RF magnetron พ่นบนพื้นผิวสะอาดอินเดียมทินออกไซด์เคลือบแก้ว

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ส่วนใหญ่เป็นชั้นเมล็ด 30 นาโนเมตรถูก growm โดยสปัตเตอร์ RF magnetron ในดีบุกออกไซด์อินเดียมทำความสะอาดพื้นผิวเคลือบแก้ว

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

เป็นหลัก เมล็ดพันธุ์ชั้น 30 nm เป็น growm ตรอนสปัตเตอริง โดย RF ทำความสะอาดกระจกเคลือบอินเดียมทินออกไซด์บนพื้นผิว