One of the constant challenges to n

One of the constant challenges to nano-science community is to present cost–effective methods to fabricate nanostructures. Although conventional nanolithography techniques, such as electron beam lithography and focused ion beam lithography, are commercially available and extensively implemented in nanofabrication, they are time-consuming and expensive. Due to these limitations in conventional approaches, more recent fabrication techniques including soft lithography, nano-imprinting lithography and nanosphere lithography have been developed. In addition to these recent approaches, there are some simpler techniques to create regular arrays of nano-holes or nano-pillars, such as nanosphere photolithography (NSP). The NSP technique uses two-dimensional (2D) self-assembled arrays of nanometre-sized polystyrene (PS) spheres as a deposition mask over photoresist. Apart from growing interest into fabrication process, characterization of surface properties is part of the research interest in

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

หนึ่งในความท้าทายคงที่เพื่อชุมชนวิทยาศาสตร์นาโนจะแสดงต้นทุน – มีประสิทธิภาพวิธีการปั้น nanostructures แม้ว่าเทคนิค nanolithography ธรรมดา ภาพพิมพ์หินลำแสงอิเล็กตรอนและโฟกัสไอออนบีมภาพพิมพ์หิน จะใช้ได้ในเชิงพาณิชย์ และดำเนินการอย่างกว้างขวางใน nanofabrication พวกเขาจะใช้เวลานาน และมีราคาแพง เนื่องจากข้อจำกัดเหล่านี้ในวิธีแบบดั้งเดิม ล่าสุดประดิษฐ์เทคนิคภาพพิมพ์หินอ่อน นาโน imprinting ภาพพิมพ์หินและภาพพิมพ์หิน nanosphere ได้รับการพัฒนา นอกจากนี้วิธีล่า มีบางเทคนิคที่เรียบง่ายเพื่อสร้างอาร์เรย์ปกติหลุมนาโนหรือนาโนเสา เช่น nanosphere photolithography (NSP) เทคนิค NSP ใช้สองมิติ (2D) อาร์เรย์ประกอบรมขนาด nanometre โฟม (PS) เป็นรูปแบบการสะสมกว่า photoresist นอกจากการเติบโตสนใจกระบวนการผลิต คุณสมบัติของคุณสมบัติของพื้นผิวเป็นส่วนหนึ่งของงานวิจัยที่สนใจใน

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

หนึ่งในความท้าทายอย่างต่อเนื่องให้กับชุมชนนาโนวิทยาศาสตร์ที่จะนำเสนอวิธีการที่มีประสิทธิภาพในการประดิษฐ์โครงสร้างนาโน แม้ว่าการชุมนุมเทคนิค nanolithography เช่นพิมพ์หินลำแสงอิเล็กตรอนและมุ่งเน้นการพิมพ์หินลำแสงไอออนเชิงพาณิชย์ที่มีอยู่และนำมาใช้อย่างกว้างขวางใน Nanofabrication พวกเขาจะใช้เวลานานและมีราคาแพง เนื่องจากข้อ จำกัด เหล่านี้ในวิธีการแบบเดิมมากขึ้นเทคนิคการผลิตที่ผ่านมารวมทั้งการพิมพ์หินนุ่มพิมพ์หินนาโน imprinting พิมพ์หินและ Nanosphere ได้รับการพัฒนา นอกจากนี้วิธีการที่ผ่านมามีบางเทคนิคที่ง่ายในการสร้างอาร์เรย์ปกติของนาโนหลุมหรือนาโนเสา-เช่น Nanosphere photolithography (NSP) เทคนิค NSP ใช้สองมิติ (2D) อาร์เรย์ตนเองประกอบของสไตรีนขนาดนาโนเมตร (PS) ทรงกลมเป็นหน้ากากของพยานมากกว่า photoresist นอกเหนือจากการเติบโตที่น่าสนใจเข้าสู่กระบวนการผลิตลักษณะของคุณสมบัติของพื้นผิวเป็นส่วนหนึ่งของงานวิจัยที่สนใจใน

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

หนึ่งในความท้าทายที่คงที่เพื่อชุมชนนาโนวิทยา เพื่อเสนอและค่าใช้จ่ายที่มีประสิทธิภาพวิธีการผลิตนาโน . แม้ว่าเทคนิคนาโนลิโทกราฟีแบบปกติ เช่น ลิโทกราฟีอิเล็กตรอนและเน้นลิโทกราฟีไอออนที่มีอยู่ในเชิงพาณิชย์ และอย่างกว้างขวางที่ใช้ใน nanofabrication พวกเขาจะใช้เวลานานและมีราคาแพงเนื่องจากข้อ จำกัด เหล่านี้ในวิธีปกติ เทคนิคการผลิตล่าสุด ได้แก่ รุ่นนุ่ม นาโนรุ่น nanosphere imprinting และหุ้นส่วนที่ได้รับการพัฒนา นอกจากแนวทางล่าสุดเหล่านี้ มีบางเทคนิคที่ง่ายกว่าการสร้างอาร์เรย์ปกติของหลุมนาโนหรือนาโน เสา เช่น nanosphere 43 ( NSP )เทคนิคของคุณ ใช้สองมิติ ( 2D ) อาร์เรย์ของควอนตัมดอต Polystyrene ( PS ) ขนาดนาโนเมตรทรงกลมเป็นสะสมหน้ากากผ่านระบบ . นอกจากความสนใจเพิ่มขึ้นในกระบวนการผลิต วิเคราะห์คุณสมบัติของพื้นผิวที่เป็นส่วนหนึ่งของงานวิจัยที่น่าสนใจใน